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近年来，MS成像被广泛应用于原研药研究、代谢研究以及其他各种领域。在使用MALDI电离法的MS成像中，除了在众多的基质种类中选择适合目标化合物检测的基质之外，研究所选择基质的涂覆方法也极其重要。喷涂法可有效地从组织中萃取，但存在成分渗出、基质晶体颗粒大、不均匀的问题。另一方面，升华法可实现基质晶体的微小、均匀化，但无法有效地从组织中萃取。因此，开发了升华法与喷涂法相结合的两步升华法（专利：6153139）和使升华的基质再结晶的升华后再结晶法等。在本文中，我们将介绍基质种类和涂覆方法的差异造成的晶体尺寸和形状差异的观察结果，以及证实两步升华法在MS成像中的优势的示例。
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升华法和两步升华法哪个更合适取决于具体情况。因此，对于没有MS成像先例的化合物，应在尝试分析一次后做出判断。在这种情况下，首先采用升华法涂覆基质，对部分样本进行分析。如果可以检测出来，则直接进行MS成像，如果检测困难，则追加采用喷涂法，对升华法和两步升华法均进行高效的研究（图9）。无论采用何种方法，采用升华法涂覆基质对MS成像来说是不可或缺的步骤。
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岛津企业管理（中国）有限公司为您提供《验证MS成像中的最佳基质涂覆方法》，该方案主要用于生物药品药物研发中药物研究检测，参考标准--，《验证MS成像中的最佳基质涂覆方法》用到的仪器有成像质谱显微镜
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