化合物半导体核壳结构纳米金属线中低加速电压SEM/STEM观察/EDX分析检测方案(扫描电镜)
半导体纳米金属线，因其物理特性可控，所以未来有望应用于光学器件上。尤其是异相聚合机构或者核壳结构的材料，富有多重物理特性，应用范围也会变得更广泛。图1是化合物半导体核壳结构纳米金属线的SE/STEM观察结果。图1(a)是二次电子图像显示了纳米金属线的表面形貌。图1(b)(c)的BF-STEM/DF-STEM图像，可以清楚观察到纳米金属先端的内部构造，可以确认核，内壳层和外壳层的三层结构。
图2是化合物半导体核壳结构纳米金属线的EDX面分布。核壳层和外壳层检测到Ga和As，内壳层检测到Al和As，能够清楚地分离出三层的结构的各种成分分布。SU9000与大立体检测角的X-MaxN 100TLE相结合，可实现超高空间分辨率的EDX面分布。
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机械合金中研磨时研磨罐内部气体温度压力数据检测方案(研磨机)
气体压力和温度测试系统（GTM）是德国Fritsch公司与德国德累斯顿的弗朗霍夫应用材料研究所联合研制的，可用于测量研磨过程中的过程值。
该气体压力和温度测试系统（GTM）适用于在完全封闭的容器中批量研磨样品的任何领域。更加适用于制备新型非晶体材料和纳米晶体材料机械合金的研究领域。而且也可监控及最佳化工业领域的研磨操作。
通过测量行星式高能球磨机研磨腔室的温度，可获得操作过程中温度的积分曲线，可反映出摩擦力，撞击力效应及转化过程。通过持续高灵敏度的监测，可记录研磨腔室内发生反应的急剧变化和最小的变化。
气体压力的测量可描述研磨过程中气体表面产生的相互作用（气体吸附及解析）。首次实现了在绝热的过程（与系统间无热量交换）中“在线”观测急剧的相变。
该气体压力和温度测试系统（GTM）首次实现了无需花费大量的时间和昂贵的尝试性试验，即可获得研磨参数——转速，球料比及研磨时间对研磨结果的影响。精确的测量和记录反应时间可产生如下的效果，如准确地加入反应样品制备新型材料，或者化合材料制备具有独特机械化学性质的混合粉末样品。
本文重点介绍了如何使用德国Fritsch公司Pulverrisette 5四罐行星式高能球磨机和GTM气体温度压力测量系统系统，测量进行机械合金研磨时研磨罐内部气体温度压力数据。
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氧化铌中使塞贝克系数得以增强检测方案(导热仪)
利用密度泛函理论，分别用铌和氮填充氧化铌中的1a和1b空位后进行了系统的探索，设计出具有较大塞贝克系数的化合物。最主要的效应是在1b魏考夫位点填入氮后，塞贝克系数增加了5倍。这个结果可以从电子结构上理解，铌的非金属p轨道杂化引发量子约束，使塞贝克系数得以增强。通过测量反应溅射薄膜的塞贝克系数，可以验证这一点。使用Linseis的塞贝克系数/电阻测试仪LSR-3/1100同步测量了铌氧氮薄膜的塞贝克系数和电阻率。在800 °C这些导电氮氧化物的塞贝克系数为-70 μV/K，这是有史以来报道这些化合物中绝 对值最 大的。
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高纯度金属中定量分析检测方案(等离子体质谱)
激光剥蚀-ICP-MS (LA-ICP-MS) 可用于固体样品和粉末中的元素分析，其中包括地质材料、陶瓷、生物组织和法医样品。本研究使用两种校准策略（基质匹配和非基质匹配）对高纯度金属进行定量分析。LA-ICP-MS 可直接分析固体样品，因此与标准液体样品进样相比，固体样品只需极少的样品前处理步骤。由于无需溶出过程，降低了分析物损失的风险，也避免了引入污染物。但是，由于缺少固体校准标样，LA-ICP-MS 分析可能难以实现精确定量分析。用于固体样品分析的校准标样比用于液体样品分析的校准标样更难以制备，含合适浓度分析物的基质匹配的固体校准标样也比较少见。在金属行业等少数领域中可能已经获得特征明确的基质匹配标准品，因为电弧/火花或辉光放电 (GD) 光学发射光谱 (OES) 等成熟分析技术中使用固体标样。
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钛镍钯合金中相变测试检测方案(其它热分析仪)
敏感性材料领域的发展非常的迅速，记忆合金是其中讨论的非常多的一个方面。形状记忆合金（SMA）可以达到塑性的实质形变，通过加热，可促使其恢复到原来的形状。早期的应用，如：通过温度调节通风，从而调节温室的窗户开钩；由超弹性SMA制成的移动电话线，整个90年代，这一系列的应用呈现大量的增长。由于SMA的超弹性和形状记忆性能，SMA在医药行业的应用迅速发展，人们对此也越来越感兴趣。
详情请见：http://www.ngb-netzsch.com.cn/technics/applarticles/tinipa%20alloys.html
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德国耐驰热分析
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金属混合物中微量元素检测方案(ICP-AES)
等离子发射光谱(ICP-OES)在冶金行业微量元素的准确定量中得以广泛应用，因为其简化了样品前处理，无需复杂的基体分离和元素富集，更不会引入其他干扰元素和杂质。同时样品不需要过量稀释而引入稀释误差。尽管有如此多的优点在先，其在该领域运用也有不可规避的挑战：光谱干扰。许多基体有非常复杂的发射谱线，例如铁有2000条谱线，这就增加了元素间谱线干扰的可能。在冶金行业，因微量元素含量低，稀释倍数受限，所以其基体的光谱干扰就变得尤为突出。虽然目前有多种消除干扰的数据处理方法，PerkinElmer公司专利的多谱线拟合矫正（MSF）技术是最强大和易操作的。对于多谱线拟合矫正方法有过很详细的介绍，见参考文献1. 简而言之，多谱线拟合就是通过已知的空白、目标元素和干扰元素谱图叠加而拟合出一个无干扰状态的峰型。该消除干扰方式包含了所有的光谱信息，与积分背景点、积分点数等无关。
本文利用Avio 500 等离子体发射光谱仪对最具挑战性的冶金样品进行分析，通过多谱线拟合（MSF）矫正技术以得到更加准确可靠的测量结果。
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金属材料中微观结构检测方案(其它元素分析仪)
Abstract. This study investigates the changes in radial micro-texture via Kearn’s f-factors during single cold pilger reduction
of a titanium Ti-3-2.5 alloy as a result of strain path changes from tooling modifications. EBSD results confirm that the
texture intensity as well as the radial f-factors can be increased by modifications of pilgering tooling. In addition a switch
between the secondary prism planes which lie normal to the pilger direction in the starting tube to primary prism planes
after pilgering has been observed.
Material and Experimental
The tubes investigated were made from Ti alloy 3Al 2.5V, they were manufactured via hot extrusion and then cold pilgered.
The cold pilger process configuration is schematically shown in Figure 1. Two strain paths, shown in the ‘Q‘ factor chart in
Figure 2, were used in the manufactiure: texture minimised and texture maximised. They were annealed at 750oC before
being cold pilgered and for this investigation they were stress relieved at 530oC for 2 hours prior to EBSD examination.
Specimens were extracted from two regions either side of the reduced tube as shown in the schematic Figure 2, mounted
in conductive Bakelite and polished mechanically for EBSD examination. The final polish was carried out using vibratory
polishes using a mixture of 5:2 colloidal silica, hydrogen peroxide mixture. EBSD examination was conducted using a
FEGSEM and OI EBSD Nordlys detector and AZtec Software.
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高纯锌中锑检测方案(ICP-AES)
电感耦合等离子体原子发射光谱仪谱线库推荐的前三条锑谱线为206.836nm、217.582nm和231.146nm，其中206.836nm相对灵敏度最高、检出限最低。本文针对ICP-AES 法测定高纯锌中的痕量锑，结合背景等效浓度(BEC)、检出限、相对灵敏度、信噪比等选用了上述三条锑谱线为分析线，探讨了高纯锌基体对痕量锑测定的光谱干扰问题。实验表明：用标准加入法分析样品并计算加标回收率时虽然三条谱线的回收率在95%~103%之间，但不同谱线样品测定结果存在较大差异；ICP-AES 法在锑谱线217.582nm和231.14nm下的测定结果和GD-MS 法、ICP-MS 法、AAS 法的测定结果具有一致性；三条谱线下分别测定锑校准空白和锌标准溶液(1mg·mL-1)，发现锌基体在206.836nm处产生了峰的完全重叠干扰，导致锑测定结果偏高。因此高纯锌中痕量锑的测定拟选择次灵敏度分析谱线217.582nm和231.146nm。
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锑
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