纳米颗粒薄膜中制备检测方案(物理气相沉积)

09 >系统概述 MiniLab 125 系统将模块化概念带到中试规模。大的腔室允许增加组件的尺寸，进而满足大面积涂层需求，结合快速进样室方案，可提高样品的吞吐量。同时，系统可定制化以匹配特定的镀膜需求。 MiniLab 125系统可用于金属、电介质和有机薄膜沉积。较大的真空腔可以用于中试规模的镀膜，可以采用较为复杂的配置满足灵活多变的科研实验需求。系统可安装所有主要类型的沉积组件或定制的组件。系统的本底真空可达 5x107mbar可根据用户的预算和具体应用采用灵活的配置方案。 模块化设计方案 电子束蒸发方案 兼容快速进样室 前开门式方形样品腔 磁控溅射方案 系统维护简单 分子泵真空系统 可用于金属、电介质和有机物沉积 全面的安全性设计 热蒸发方案 最大11英寸样品台 兼容超净间 低温蒸发方案(适合有机物) 触摸屏系统控制 真空系统选件：油泵或干泵，分子泵、高真空冷泵； 气体/压力控制：通过 MFC 流量计和节流阀手动或自动控制； 快速进样室：单样品或多样品存储； 样品台：旋转，加热和z向移动，偏压、行星式样品台； 挡板：源挡板和衬底挡板，气动或电动； 操作方式：通过前面板、触摸屏人机界面或 PC 进行手动或自动操作； 过程控制：石英晶体传感器速率/厚度监测或反馈回路控制。 金属热蒸发方案 4个 TE热蒸发源，带挡板和旋转样品台。大功率 TEC-4A电源和控制器，具有基于程序的自动化生长过程控制功能。石英晶体传感器与PC软件对速率/厚度进行监测。 金属与有机物热蒸发方案 2个金属TE热蒸发源，2个有机物 LTE-1CC 蒸发源。带挡板和旋转样品台。蒸发电源连接到石英晶体传感器和 InficonSQC-310过程控制器，用于按用户定义的速率/厚度进行自动化生长过程控制。 电子束蒸发方案 水冷多袋式 (6×7cc 或 8x4cc) 电子束源、5KW电源、具有自动选择功能的控制器。带挡板和旋转样品台。石英晶体传感器和 Inficon SQC-310 过程控制器，用于按用户定义的速率/厚度进行自动化生长过程控制。 磁控溅射方案 多达4个水冷式3英寸直径磁控溅射靶。直流、射频电源并配有超级切换功能。带挡板和旋转样品台。基于程序的自动化过程控制方案。 日前，由英国著名的薄膜沉积设备制造商Moorfield Nanotechnology公司生产的首套纳米颗粒与磁控溅射综合系统在奥地利的莱奥本矿业大学Christian Mitterer教授课题组安装并交付使用。该设备由MiniLab125型磁控溅射系统与纳米颗粒溅射源共同组成，可以同时满足用户对普通薄膜和纳米颗粒膜制备的需求。集成了纳米颗粒源的MiniLab125磁控溅射系统 传统薄膜材料的研究专注于制备表面平整、质地致密、晶格缺陷少的薄膜，很多时候更是需要制备沿衬底外延生长的薄膜。然而随着研究的深入，不同的应用方向对薄膜的需求是截然不同。在表面催化、过滤等研究方向，需要超大比表面积的纳米薄膜。在这种情况下，纳米颗粒膜具有不可比拟的优势。而传统的磁控溅射在制备纯颗粒膜方面对于粒径尺寸，颗粒均匀性方面无法实现精准控制。气相沉积法、电弧放电法、水热合成法等在适用性、操作便捷性、与传统样品处理的兼容性等方面不友好。在此情况下，Moorfield Nanotechnology推出了与传统磁控溅射和真空设备兼容的纳米颗粒制备系统。不同条件制备的颗粒粒径分布（厂家测试数据）不同颗粒密度样品（厂家测试数据）纳米颗粒制备技术特点：▪  纳米颗粒的大小1 nm-20 nm可调；▪  最多可达3重金属，可共沉积，可制备纯/合金颗粒；▪  材料范围广泛，包括Au、Ag、Cu、Pt、Ir、Ni、Ti、Zr等▪  拥有通过控制气氛制造复合纳米粒子的可能性（类似于反应溅射）▪  卓越的纳米颗粒层厚度控制，从亚单层到三维纳米孔▪  纳米颗粒结构——结晶或非晶、形状可控纳米颗粒膜的应用方向：▪  生命科学和纳米医学： 癌症治疗、药物传输、抗菌、抗病毒、生物膜▪  石墨烯研究方向：电子器件、能源、复合材料、传感器▪  光电研究：光伏研究、光子俘获、表面增强拉曼▪  催化：燃料电池、光催化、电化学、水/空气净化▪  传感器：生物传感器、光学传感器、电学传感器、电化学传感器