无机无铅钙钛矿材料中薄膜制备检测方案(物理气相沉积)

>系统概述 nanoPVD T15A 是 Moorfield Nanotechnology 推出的 nanoPVD 系列中最新的型号，高腔体设计方案专为热蒸发而设计，确保薄膜均匀度，最大可生长4英寸的薄膜样品。近一年时间在英国安装就有十几套，剑桥大学、巴斯大学、埃克塞特大学、伦敦玛丽女王大学等都是该设备的用户。 >系统介绍 系统同时具有台式设备的小巧和大型设备的性能，可以配备低温蒸发源(LTE)和标准电阻蒸发源，分别用于沉积有机物和金属薄膜。系统的核心部分是模块化设计的腔体，该设计方案有利于日常维护。腔体后面是分子泵接口，系统通过分子泵和机械泵获得高真空。腔体采用铰链式顶盖设计方案，方便操作。系统最大可以安装4英寸样品台。样品台可选500°℃加热和旋转。触屏人机交互界面使系统操作十分方便。系统具有晶振传感器，方便校准和监控薄膜生长速率。 LTE蒸发源具有高精度的控制电源，可以在≤600℃范围内精准控制蒸发温度，适合制备高质量的有机物薄膜。LTE 蒸发源可以安装氧化铝或石英埚(内部体积2cc)，甜埚更换等操作非常简单。 金属源采用盒式屏蔽模式，可以有效的减少交叉污染等问题。智能的控制系统和灵活的配置方案使 PVD-T15A 广泛应用于全球材料研究领域。 nanoPVD T15A 可用于制备高质量的金属、有机物薄膜和异质结等材料。可应用于传统材料科学和新型的 OLED(有机发光二极管)、OPV(有机光伏材料)和 OFET(有机场效应管)领域。 nanoPVD T15A 顶部开盖 ◆ 控制系统 nanoPVD T15A配备了高稳定性、工业级 PLC 控制系统。用户可通过7英寸触摸屏进行系统的操作。功能强大且易用的软件可以满足对设备的全自动控制。用户可以编辑、保存和加载多个生长程序。 控制软件截屏，通过触屏面板用户可以方便地操作设备 >系统选件 nanoPVD-T15A的标准配置包括真空腔室、真空泵系统、外壳和电子设备。用户必须选择至少一种金属或有机物源组成完整的系统。系统最多可选择四个蒸发源(允许混合搭配)。用户可根据自己的预算选择最适合的配置。 ·机械泵类型可选·4英寸基片、双挡板腔体视窗源挡板·样品腔快速充气基片500℃加热·麦基片旋转4有机蒸发源·基片高度调节2金属蒸发源·2英寸基片挡板晶振膜厚测量系统 nanoPVD-T15A 可配置了两个有机 LTE 源和两个金属源，系统可装石英晶振系统用于监测沉积速率和厚度。 >5安装条件 电力：单相220V，50Hz，10A 冷却水：18-20℃，1L/min，pressure <4bar 过程气体：99.99%纯度氩气，25psi 尾气：器械泵尾气排放 服务气体：干燥压缩空气或氮气 60-80psi 下一代太阳能电池的大部分研究都与铅-卤化物钙钛矿混合材料有关。然而，人们正不断努力寻找具有类似或更好特性的替代化合物，想要消除铅对环境的影响，而迄今为止，这种化合物一直难以获得。因此寻找具有适当带隙范围的无铅材料是很重要的，如果将它们结合起来，就可以利用太阳光谱的不同波长进行发电。这将是提高未来太阳能电池效率降低成本的关键。近期，牛津大学的光电与光伏器件研究组的Henry Snaith教授与Benjamin Putland博士研究了具有A2BB’X6双钙钛矿结构的新型无机无铅光伏材料。经过计算该材料具有2 eV的带隙，可用做光伏电池的顶层吸光材料与传统Si基光伏材料很好的结合，使光电转换效率达到30%。与有机钙钛矿材料相比，无机钙钛矿材料具有结构稳定使用寿命更长的优势。而这种新材料的制备存在一个问题，由于前驱体组分的不溶性和复杂的结晶过程容易导致非目标性的晶体生长，因此难以通过传统的水溶液法制备均匀的薄膜。Benjamin Putland博士采用真空蒸发使这些问题得以解决。使用Moorfield Nanotechnology的高质量金属\有机物热蒸发系统，通过真空蒸发三种不同的前驱体，研究人员成功沉积制备出了所需要的薄膜。真空蒸发具有较高的控制水平和可扩展性，使得材料的工业化制备成为可能。所制备的薄膜在150℃退火后，XRD图。所制备的薄膜在150℃退火后，表面SEM图 Moorfield 薄膜制备与加工系统简介Moorfield Nanotechnology是英国材料科学领域高性能仪器研发公司，成立二十多年来专注于高质量的薄膜生长与加工技术，拥有雄厚的技术实力，推出的多种高性能设备受到科研与工业领域的广泛好评。高精度薄膜制备与加工系统 – MiniLab旗舰系列和nanoPVD台式系列是英国Moorfield Nanotechnology公司经过多年技术积累与改进的结晶。产品的定位是配置灵活、模块化设计的PVD系统，可用于高质量的科学研究和中试生产。设备的功能和特点：▪  蒸发设备：热蒸发（金属）、低温热蒸发(有机物)、电子束蒸发▪  磁控溅射：直流&射频溅射、共溅射、反应溅射▪  兼容性：可与手套箱集成、满足特殊样品制备▪  其他功能设备：二维材料精准软刻蚀、样品热处理▪  设备的控制：触屏编程式全自动控制