工业气体分析系统——PFC气体分析

诸如CF3、C2F6、C4F8和CHF3的PFC（全氟碳）气体被用作干式磨边和CVD设备的清洁剂，这是半导体制造中的一个关键过程。PFC气体被认为是全球变暖或“温室”气体，迫切需要控制这些气体的进一步排放。FTIR光谱可用于PFCs的分析。VIR系列FTIR光谱仪结构紧凑（占地面积：A4尺寸，重量：18公斤），性能可靠，适用于在线工业监测应用。多通道、长路径气室以优异的灵敏度提供最大吞吐量，VIR系列可配置用于半导体PFC气体的流通或静态测量。多变量分析方法（CLS、PCR、PLS和省略号）都可以用于多组分样品的同时定量。Application Note230-QU-0181 Industrial Gas Analysis System-PFC Gas Analysis2/2Application Note Industrial Gas Analysis System-PFC Gas Analysis VIR-9500wit h Gas Cel l Exper i men t al CHF3 C 4F8 Abs 一 C2F6 CF4 SF 6 2000 Wavenumber [cm1 400 Figure 1. I R spec t ra o f PFC gases Figure 2. P FC Ga s Ana l ysis Syste m