超纯半导体级硫酸中痕量元素检测方案(ICP-MS)

收藏
检测样品: 集成电路
检测项目: 化学性质
浏览次数: 233
发布时间: 2021-03-11
关联设备: 1种 查看全部
获取电话
留言咨询
方案下载

安捷伦科技(中国)有限公司

钻石23年

解决方案总数: 3279 方案总浏览次数:
方案详情
使用 Agilent 8900 半导体配置 ICP-MS/MS,成功测定了半导体级 H2SO4 中超痕量水平下的 42 种元素。1/10 稀释的 H2SO4 中,20 ppt 水平(Si 为 2 ppb)下的所有元素均获得了优异的加标回收率,证明8900 ICP-MS/MS 方法适用于高纯度工艺化学品的常规分析。 使用 ICP-MS/MS 在 MS/MS 模式下采用适当反应池气体条件,避免了质谱干扰问题的出现,这些干扰会阻碍 ICP-QMS 对某些关键元素的测量。8900 ICP-MS/MS 的轴向加速功能明显提高了测定 Ti、Zn 和 P 等原子所需的子离子灵敏度。9.8% H2SO4中的几乎所有分析物均获得了亚 ppt 级 DL 和 BEC。

方案详情

使用 Agilent 8900 半导体配置 ICP-MS/MS,成功测定了半导体级 H2SO4 中超痕量水平下的 42 种元素。1/10 稀释的 H2SO4 中,20 ppt 水平(Si 为 2 ppb)下的所有元素均获得了优异的加标回收率,证明8900 ICP-MS/MS 方法适用于高纯度工艺化学品的常规分析。使用 ICP-MS/MS 在 MS/MS 模式下采用适当反应池气体条件,避免了质谱干扰问题的出现,这些干扰会阻碍 ICP-QMS 对某些关键元素的测量。8900 ICP-MS/MS 的轴向加速功能明显提高了测定 Ti、Zn 和 P 等原子所需的子离子灵敏度。9.8% H2SO4中的几乎所有分析物均获得了亚 ppt 级 DL 和 BEC。
确定

该文件无法预览

请直接下载查看

产品配置单

安捷伦科技(中国)有限公司为您提供《超纯半导体级硫酸中痕量元素检测方案(ICP-MS)》,该方案主要用于集成电路中化学性质检测,参考标准--,《超纯半导体级硫酸中痕量元素检测方案(ICP-MS)》用到的仪器有Agilent 8900 ICP-MS/MS