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Agilent 8900 半导体配置ICP-MS/MS 具有灵活的反应池气体支持、独特的 MS/MS 功能和无与伦比的冷等离子体性能，进一步提高了高纯酸中各种痕量金属污染物分析的检测限。8900 ICP-MS/MS 支持的高级反应池方法允许测定氯化物基质中浓度比以往更低的 SEMI 元素，包括可能有基质干扰的元素，如K、V、Cr、Ge 和 As。
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Agilent 8900 半导体配置ICP-MS/MS 具有灵活的反应池气体支持、独特的 MS/MS 功能和无与伦比的冷等离子体性能，进一步提高了高纯酸中各种痕量金属污染物分析的检测限。8900 ICP-MS/MS 支持的高级反应池方法允许测定氯化物基质中浓度比以往更低的 SEMI 元素，包括可能有基质干扰的元素，如K、V、Cr、Ge 和 As。
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安捷伦科技(中国)有限公司为您提供《高纯盐酸中痕量金属杂质检测方案(ICP-MS)》，该方案主要用于集成电路中化学性质检测，参考标准--，《高纯盐酸中痕量金属杂质检测方案(ICP-MS)》用到的仪器有Agilent 8900 ICP-MS/MS
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