Hakuto 离子刻蚀机 10IBE 刻蚀衍射光学元件提高均匀度

本报告详细介绍了 Hakuto 10IBE 离子刻蚀机在衍射光学元件制造中的技术应用。该设备配备了 KRI 考夫曼公司的 KDC 160 离子源和 Pfeiffer 涡轮分子泵 Hipace 700，能够实现高真空度的精确控制，从而显著提高衍射光学元件的表面均匀性。通过本报告，我们展示了 Hakuto 10IBE 在提升光学元件性能方面的显著优势和应用潜力。关键词： Hakuto 10IBE 离子刻蚀机，KDC 160 离子源，Hipace 700 涡轮分子泵，衍射光学元件，表面均匀性1. 引言 衍射光学元件因其独特的光学性能在多个高技术领域中得到广泛应用。随着技术的发展，对衍射光学元件的制造工艺提出了更高的要求。Hakuto 10IBE 离子刻蚀机的应用，为实现高精度和高均匀性的光学元件制造提供了新的解决方案。2. Hakuto 10IBE 离子刻蚀机概述 Hakuto 10IBE 离子刻蚀机是伯东公司代理的一款高性能离子刻蚀设备，其核心构件离子源为 KRI 考夫曼公司的 KDC 160。该设备采用 Pfeiffer 涡轮分子泵 Hipace 700，确保了真空腔的高真空度，为高质量刻蚀提供了必要条件。3. 技术优势与应用背景 Hakuto 10IBE 离子刻蚀机在实现高真空度的同时，通过精确控制离子束的能量和方向，有效提高了衍射光学元件的表面均匀性。这对于光学元件的性能至关重要，尤其是在提高衍射效率和光学成像质量方面。4. 操作流程与工艺参数 Hakuto 10IBE 离子刻蚀机的操作流程包括真空腔的抽真空、离子源的激活、刻蚀过程的精确控制以及后处理等步骤。工艺参数的优化是实现高均匀性刻蚀的关键，包括离子能量、刻蚀时间、气体流量等。5. 应用案例分析 本报告将结合北京某实验室的具体应用案例，分析 Hakuto 10IBE 离子刻蚀机在制造衍射光学元件中的实际表现和优势。6. 结果与讨论 通过对比传统刻蚀工艺与 Hakuto 10IBE 离子刻蚀机的应用效果，本报告将展示该设备在提高刻蚀均匀性、缩短制备周期等方面的显著优势。7. 结论 Hakuto 10IBE 离子刻蚀机凭借其高效、简便的操作特点以及优异的真空控制能力，为衍射光学元件的制造提供了一种新的高效解决方案，有望在光学制造领域得到更广泛的应用。Hakuto 离子蚀刻机 10IBE 技术参数:基板尺寸< Ф8 X 1wfr样品台直接冷却（水冷）0-90 度旋转离子源16cm 考夫曼离子源均匀性±5% for 4”Ф硅片刻蚀率20 nm/min温度<100 该 Hakuto 离子刻蚀机 7.5IBE 的核心构件离子源是配伯东公司代理美国考夫曼博士创立的 KRI考夫曼公司的考夫曼离子源 KDC 75 伯东美国 KRI 考夫曼离子源 KDC160 技术参数： 离子源型号 离子源 KDC 160 DischargeDC 热离子离子束流>650 mA离子动能100-1200 V栅极直径16 cm Φ离子束聚焦, 平行, 散射流量2-30 sccm通气Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他典型压力< 0.5m Torr中和器灯丝伯东离子蚀刻机应用领域上海伯东是德国 Pfeiffer  真空设备, 美国  KRI 考夫曼离子源, 美国Gel-pak 芯片包装盒, 美国 inTEST 高低温冲击测试机， 日本 NS 离子蚀刻机, 比利时 Stratasys 3D 打印机, 比利时原装进口 Europlasma 等离子表面处理机 和美国 Ambrell 感应加热设备 等进口知名品牌的指定代理商 .我们真诚期待与您的合作!若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请联络 上海伯东: 罗女士上海伯东版权所有, 翻拷必究！