本报告详细介绍了 Hakuto 10IBE 离子刻蚀机在制作面阵石英 DNA 芯片模板中的应用。该设备配备 KRI 考夫曼公司的 KDC 160 离子源和 Pfeiffer 涡轮分子泵 Hipace 700,确保了高真空度和刻蚀过程的高均匀性。Hakuto 10IBE 离子刻蚀机制作的芯片模板表面微结构形貌有利于 DNA 序列样本与芯片模板的吸附耦合,提高了实验效率和准确性。关键词: Hakuto 10IBE 离子刻蚀机,KDC 160 离子源,Hipace 700 涡轮分子泵,DNA 芯片模板,表面微结构形貌1. 引言 DNA 芯片技术作为一种高通量、高灵敏度的生物检测手段,在基因表达分析、疾病诊断、药物筛选等领域具有重要应用。Hakuto 10IBE 离子刻蚀机的引入,为 DNA 芯片模板的精确制作提供了有力工具。2. Hakuto 10IBE 离子刻蚀机概述 Hakuto 10IBE 离子刻蚀机是一款高性能的刻蚀设备,由上海伯东代理,配备了美国 KRI 考夫曼公司生产的 KDC 160 离子源,以及 Pfeiffer 涡轮分子泵 Hipace 700,确保了设备在高真空条件下的高效运行。3. 技术优势与应用背景 Hakuto 10IBE 离子刻蚀机具备干式制程的微细加工能力,适用于多种材料的加工。其物理蚀刻特性使其在不同领域具有广泛的应用潜力。设备的射频角度可任意调整,能够根据需要实现垂直、斜面等多种加工形状。4. 操作流程与工艺参数 Hakuto 10IBE 离子刻蚀机的操作流程包括样品装载、真空系统激活、离子源激活、刻蚀参数设置和刻蚀过程监控等步骤。工艺参数如离子能量、刻蚀时间、气体流量等对最终的刻蚀效果有直接影响。5. 应用案例分析 华中某实验室采用 Hakuto 10IBE 离子刻蚀机制作面阵石英 DNA 芯片模板,通过优化工艺参数,实现了芯片模板表面微结构的精确控制,从而提高了 DNA 序列样本的吸附耦合效率。6. 结果与讨论 与传统的光刻及离子束蚀刻技术相比,Hakuto 10IBE 离子刻蚀机制作的 DNA 芯片模板在表面微结构形貌上具有明显优势,更有利于 DNA 样本的吸附和耦合,为后续的分子生物学研究提供了有力支持。7. 结论 Hakuto 10IBE 离子刻蚀机在 DNA 芯片模板制作中展现出了卓越的性能,其高真空度、高刻蚀均匀性以及对表面微结构的精确控制,为生物芯片技术的发展提供了新的技术路径。Hakuto 离子蚀刻机 10IBE 技术参数:基板尺寸< Ф8 X 1wfr样品台直接冷却(水冷)0-90 度旋转离子源16cm 考夫曼离子源均匀性±5% for 4”Ф硅片刻蚀率20 nm/min温度<100 该 Hakuto 离子刻蚀机 7.5IBE 的核心构件离子源是配伯东公司代理美国考夫曼博士创立的 KRI考夫曼公司的考夫曼离子源 KDC 75 伯东美国 KRI 考夫曼离子源 KDC160 技术参数: 离子源型号 离子源 KDC 160 DischargeDC 热离子离子束流>650 mA离子动能100-1200 V栅极直径16 cm Φ离子束聚焦, 平行, 散射流量2-30 sccm通气Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他典型压力< 0.5m Torr中和器灯丝伯东离子蚀刻机应用领域上海伯东是德国 Pfeiffer 真空设备, 美国 KRI 考夫曼离子源, 美国Gel-pak 芯片包装盒, 美国 inTEST 高低温冲击测试机, 日本 NS 离子蚀刻机, 比利时 Stratasys 3D 打印机, 比利时原装进口 Europlasma 等离子表面处理机 和美国 Ambrell 感应加热设备 等进口知名品牌的指定代理商 .我们真诚期待与您的合作!若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请联络 上海伯东: 罗女士上海伯东版权所有, 翻拷必究!