在电路板处理过程中,除胶是指去除钻孔制程因钻头切削,摩擦产生高温所造成的胶渣,并且粗化树脂表面,使化学沉铜沉积于树脂间有良好的结合力。在处理完之后需要中和除胶槽中的氢氧化钠,故事先需检测除胶槽中的氢氧化钠含量。
Mlanon海能仪 器 海能仪器:水平除胶槽中氢氧化钠含量的测定(电位滴定法) 1简介 在电路板处理过程中,除胶是指去除钻孔制程因钻头切削,摩擦产生高温所造成的胶渣,并且粗化树脂表面,使化学沉铜沉积于树脂间有良好的结合力。在处理完之后需要中和除胶槽中的氢氧化钠,故事先需检测除胶槽中的氢氧化钠含量。 2,测定原理及方法 H++OH=H2O 取待测液加入20ml1mol/L 的 BaCl2, 用 0.1mol/L 的 HCI滴定至 pH=7 以pH复合电极作工作电极, HCl 作滴定剂进行电位滴定,得到滴定终点。 3实验仪器 ● T960 电位滴定仪 ● 10ml滴定管 16位自动进样器 pH复合电极 4试剂 ● 滴定剂:C(HCI)=0.09837mol/L, 滴定剂的浓度用基准物质碳酸钠标定。 ● 碳酸钠基准物质 ● 1mol/LBaCl2 溶液 5实验步骤 仪器准备,请参照说明书 测定方法:取待测液1ml加入 20ml1mol/L 的 BaCl2, 用0.1mol/L 的 HCI滴定至 pH=7以 pH复合电极作工作电极, HCl作滴定剂进行电位滴定,得到滴定终点。 6测试结果 1)进样方式:进样器 2)参数设定:常量滴定 3)实验数据 编号 取样量(ml) C (HCI)/mol/L V(/ml) C(OH)/mol/L 1 1 0.09837 12.600 1.2395 2 12.580 3 12.700 7,实验结果 水平除胶槽中氢氧化钠平均含量为 1.2395mol/L.为节省滴定时间,可以减少取样量或者增大滴定剂的浓度进行测试。 -- --
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海能未来技术集团股份有限公司为您提供《水平除胶槽中氢氧化钠含量检测方案(自动电位滴定)》,该方案主要用于其他中氢氧化钠含量检测,参考标准--,《水平除胶槽中氢氧化钠含量检测方案(自动电位滴定)》用到的仪器有海能T960全自动滴定仪