通过D-Swafer中心切割技术使用GC/MS研究溶剂中的杂质

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发布时间: 2013-07-10
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珀金埃尔默企业管理(上海)有限公司

钻石22年

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气相色谱(GC)是分析溶剂中杂质的首选技术,再配上一台质谱检测器,就可以鉴定其中所含的杂质是什么。由于许多溶剂都是通过分馏生产而得到,因此杂质将与溶剂具有相类似的沸点。因而在GC分析中,杂质的保留时间将与溶剂接近,从而共流出的风险将非常高。本文介绍了一种中心切割技术,该技术允许所有注射的样品到达检测器,从而解决了溶剂峰分离度和潜在的检测器损坏的问题。该技术同时提供了一个全面和可信的方法,以检测溶剂中低含量杂质。

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珀金埃尔默企业管理(上海)有限公司为您提供《通过D-Swafer中心切割技术使用GC/MS研究溶剂中的杂质》,该方案主要用于其他中--检测,参考标准--,《通过D-Swafer中心切割技术使用GC/MS研究溶剂中的杂质》用到的仪器有气相色谱质谱仪PerkinElmer Clarus SQ8