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碳成像标准中锡球测试空间能谱分辨率检测方案(X射线能谱仪)
Testing EDS spatial resolution using a tin sphere on carbon
imaging standard
Using 2 kV at 5 mm WD, a spectrum image (6,500 cps, 15 minutes) was collected from an area of the standard where the
smallest spheres were concentrated. The X-ray data were reconstructed into a ‘layered map’ combining the Sn M (400 eV) and
O K signals from the Sn spheres (Fig. 1). Inspection of the image shows that spheres down to 10 nm in diameter are clearly
differentiated. Smaller spheres, which were measured at 7.5 nm, can also be distinguished in the image.
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锡球测试空间能谱分辨率
牛津仪器科技（上海）有限公司
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碳纳米点中的功能特性检测方案(分子荧光光谱)
基于OLEDs制备的显示屏柔韧性好可弯曲，且相较于LED屏幕更为轻薄、清晰、亮度高色彩鲜艳，且发光效率也更高。市面上常见的曲面电视就是OLED显示屏的绝佳应用案例。可以想见，将这种OLEDs制备的显示屏应用于手机屏制作，降低手机生产成本，或许会为折叠屏手机市场的拓展带来新契机。利用碳纳米点制备OLEDs虽然有种种优势，但其耐久性及对环境的敏感性一直是一个障碍。为克服这些技术难点，肯塔基大学化学系副教授金斗允博士选择先从基础研究做起，使用HORIBA FluoroMax荧光光谱仪的扩展版来研究碳纳米点。
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的功能特性
HORIBA（中国）
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钨钛合金粉末中球磨制备过程检测方案(研磨机)
通过粉末冶金方法制备适合于高压封垫材料的W-Ti合金，其中选择W以及Ti或TiH2为原始粉末，采用行星球磨机球磨，然后经成形和真空烧结得到最终W-Ti合金。1.在行星球磨过程中，细小而硬的W粉颗粒促进粗而脆的TiH2粉末的破碎，使整体粉末粒度变细，呈等轴颗粒状；但对粗而软的Ti粉的破碎没有作用，反而嵌在片状Ti粉上使整体粒度变粗。
2.W-TiH2混合粉末球磨12.0h后，中位径由原始的10.87μm急剧降低到1.31μm，随后减小趋势缓慢；而W-Ti混合粉末球磨12.0h的中位径为13.01μm，明显粗于球磨后的W-TiH2混合粉末。
3.与W-Ti粉末相比，W-TiH2粉末烧结得到的合金组织非常细小均匀，并且随球磨时间延长，W-TiH2粉末的畸变和晶体缺陷增多，为合金烧结扩散提供更有利条件，组织更加致密，更加均匀细小。
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球磨制备过程
北京飞驰科学仪器有限公司
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硅纳米颗粒中荧光各向异性研究检测方案(分子荧光光谱)
Birch, et al., have shown that fluorescence anisotropy-decay in sols with two rotational correlation times can be explained by the existence of silica particles. This interpretation allows monitoring sol-gels in situ with sub-nanometer resolution. Because a fluorophore immobilized in a gel does not de- polarize fluorescence, one can study particle size well after the sol-to-gel transition time, a major advantage over scattering techniques (e.g., with neutrons or X-rays) where gel-scattering distorts the scattering function.
Moreover, the rapid data-acquisition needed to acquire anisotropy-decay data within time-spans as short as a few minutes is aided greatly by the high-repetition rate of the NanoLED excitation sources from HORIBA Jobin Yvon.
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荧光各向异性研究
HORIBA（中国）
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量子点 中荧光寿命检测方案(分子荧光光谱)
The NanoLog® is an indispensable tool for studying fluorescence lifetimes of samples whose luminescence is primarily in the near-IR, such as quantum dots. Other uses for the NanoLog® include solid-state research, biosensing, and cancer studies. The NanoLog® also available with TCSPC multichannel-scaling options of 500 ns/channel and 2 ns/channel, as well as a broadband 5509 photomultiplier tube, sensitive from 300–1700 nm, with a timetransit spread of 1.5 ns.
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荧光寿命
HORIBA（中国）
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平板显示器中荧光检测方案(分子荧光光谱)
This particular investigation of phosphor emission characteristics was made possible by the excellent stray-light reflection, sensitivity, and wide lifetime range of the FLUOROLOG-τ® producing rapid and accurate characterization of the phosphor.
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荧光
HORIBA（中国）
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GeSb膜中厚度，光学常数检测方案(椭偏仪)
Spectroscopic ellipsometry is a powerful technique for high accuracy characterization of the thickness and optical constants of GeSbTe multilayer systems for rewritable optical disc applications.
It was shown that measurement in the NIR range gives better accuracy for the analysis of these types of material. The use of the multiple sample analysis reduces parameter correlations and errors for the thinnest layers.
Owing to the advanced modelling features included in the DeltaPsi2 software, it is a straightforward procedure to analyze such structures even with layers deposited on both sides of the substrate.
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厚度，光学常数
HORIBA（中国）
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TFT和LTPSTFT-LCD显示器中厚度，光学常数检测方案(椭偏仪)
Spectroscopic ellipsometry is an excellent technique for the highly accurate characterization of TFT-LCD display panels based on a-Si and LTPS technologies. Owing to the sensitivity of the UVISEL spectroscopic ellipsometer and the advanced modeling features included in the DeltaPsi2 software it is possible to detect in a multistack different a-Si layers processed by various methods. Moreover the spectroscopic ellipsometry measurements allow determination of the grain size of p-Si films and illustrate the ability to characterize the crystallinity of
silicon with high accuracy.
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厚度，光学常数
HORIBA（中国）
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TFT-LCD显示屏中膜厚度，光学性能，掺杂的影响，各向异性层检测方案(椭偏仪)
Phase Modulated Spectroscopic Ellipsometry is an excellent technique for the highly accurate characterization of complete TFT-LCD device. The technique allows the determination of film thickness, optical properties but also more complex properties such as graded or anisotropic layers and effect of dopants.
In the flat panel industry the pressure to reduce manufacturing costs is and reliable metrology tools are required to control the different steps of the process. Spectroscopic ellipsometry is a non destructive technique which presents advanced capabilities and proven reliability tailored for qualification and on-line production control.
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膜厚度，光学性能，掺杂的影响，各向异性层
HORIBA（中国）
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中微子中重量检测方案(氦质谱检漏仪)
泄漏检测解决方案须满足的要求
在泄漏测试过程中，必须避免所有可能的污染。所有测试方法，即使具有最轻微的容器污染风险，如染料渗透测试或使用发泡剂，均需排除。
进行泄漏测试的整体理念由 MAN DWE 与卡尔斯鲁厄理工学院(KIT) 的专家共同开发。普发真空的产品也用于此目的。泄漏测试所需的最终压力取决于要安装的泵的容量。
装配完成的主光谱仪整体氦气泄漏测试规定的极限值 < 5 · 10-9mbar l/s。需要的氦本底信号 < 5 · 10-10 mbar l/s。初步计算表明，体积为 1,240 m3 的腔室的抽空时间大约为三天，以达到所需的氦本底。
因此，即使使用额定氦气抽速为 2,600 l/s 的强力涡轮分子泵，泄漏测试的响应时间也需要 20 分钟左右。之后在一个半小时后才可能达到信号最大值，而信号衰减则需要更长的时间。
考虑到这一点，在存在多个泄漏风险的情况下，只进行单一的整体测试似乎并不可行。因此，在生产过程中建立泄漏测试程序，进行大量的个别测试以及尽可能少的整体测试。这样做的目的是为了防止重新加工密封表面或焊缝的风险（比如在后期）。在生产过程中的测试可以找出制造时的任何泄漏，可以较早准确修正质量偏差。这样可以避免耗时的重复测试以及对完成表面造成的潜在损坏。
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重量
普发真空技术（上海）有限公司
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光电材料中光电极的动态检测方案(电化学工作站)
Cimps是Zahner公司潜心研发的光电化学测试设备，是世界上第一套系统的将各种光电化学测试技术集合到一起的仪器。由于目前该仪器对于国内的用户还比较陌生，所以我们特别将Zahner公司与德国某大学合作的科研结果介绍给大家。希望可以起到抛砖引玉的作用，让目前世界上最热门的动态光电化学测试技术尽快在国内得到普及。这是一份现场报告的摘要，里面简要介绍了在光照条件下采用EIS技术测试不同的光电极的反应性质的过程及结论，从中可以看到，Cimps实际上是采用光信号作为激发信号的阻抗谱技术，所以它可以用于研究光电极的动态工作状况（类似于采用EIS技术研究电极的工作状况）。最后，通过运用拟合技术还可以研究光电极的能量结构，这是Cimps对IMVS/IMPS等技术的扩展与深化。
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光电极的动态
香港环球分析测试仪器有限公司
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仪器信息网行业应用栏目为您提供457篇其他检测方案，可分别用于物理性质检测、化学性质检测、特性检测、功能性测试检测、其它检测，参考标准主要有等