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高纯氯化氢是集成电路生产中硅片蚀刻、钝化、外延、气相抛光、吸杂和洁净处理等工艺的重要材料，也可用于金属冶炼，光导通讯和科学研究等领域。
随着大规模集成电路的发展，对氯化氢纯度的要求越来越高，除了应具有99.999%以上的纯度，对其中杂质的含量要求越来越苛刻，尤其要求严格限制碳氢化合物和碳氧化合物的含量，以防止硅片加工过程中碳的形成。
之前我国大多从美、日等国进口电子级氯化氢，但近年来，我国电子工业所需的化学气体研制，在技术上已有不少突破和发展。国内也有单位已成功开发出相关的电子级氯化氢产品，但还远不能满足市场需求，市场前景广阔。
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高纯氯化氢是集成电路生产中硅片蚀刻、钝化、外延、气相抛光、吸杂和洁净处理等工艺的重要材料，也可用于金属冶炼，光导通讯和科学研究等领域。随着大规模集成电路的发展，对氯化氢纯度的要求越来越高，除了应具有99.999%以上的纯度，对其中杂质的含量要求越来越苛刻，尤其要求严格限制碳氢化合物和碳氧化合物的含量，以防止硅片加工过程中碳的形成。之前我国大多从美、日等国进口电子级氯化氢，但近年来，我国电子工业所需的化学气体研制，在技术上已有不少突破和发展。国内也有单位已成功开发出相关的电子级氯化氢产品，但还远不能满足市场需求，市场前景广阔。
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高麦克仪器 GOW-MAC为您提供《高纯氯化氢中痕量杂质分析检测方案(在线气相色谱)》，该方案主要用于其他中化学性质检测，参考标准--，《高纯氯化氢中痕量杂质分析检测方案(在线气相色谱)》用到的仪器有GOW-MAC 5900专用气相色谱仪
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