KRI 射频离子源典型应用 LED-DBR 辅助镀膜

伯东企业（上海）有限公司HAKUTO ENTERPRISES (SHANGHAI) LTD.TEL: (86) 21-5046 3511 FAX: (86) 21-5046 1490 KRI 射频离子源 (​http:​/​​/​www.hakuto-vacuum.cn​/​product-list.php?sid=102" \t "_blank​)典型应用 LED-DBR 辅助镀膜 上海伯东美国 KRI 射频离子源 (​http:​/​​/​www.hakuto-vacuum.cn​/​product-list.php?sid=102" \t "_blank​)成功应用于 LED-DBR 离子辅助镀膜市场. 随着对镀膜品质要求的不断提升, 使用霍尔离子源 (​http:​/​​/​www.hakuto-vacuum.cn​/​product-list.php?sid=39" \t "_blank​)辅助镀膜已经无法满足高端镀膜应用市场, 国内某知名 LED 制造商经过我司推荐采用射频离子源 (​http:​/​​/​www.hakuto-vacuum.cn​/​product-list.php?sid=102" \t "_blank​) RFICP 325 安装在 DBR 生产设备 1650 mm 蒸镀机中. 成功实现高端光学镜头镀膜并通过脱膜测试! 上海伯东射频离子源 (​http:​/​​/​www.hakuto-vacuum.cn​/​product-list.php?sid=102" \t "_blank​)客户案例: 国内某知名 LED 制造商 1. 离子源 (​http:​/​​/​www.hakuto-vacuum.cn​/​product-list.php?pid=16​)应用: LED-DBR 镀膜生产 2. 系统功能: 1650 mm 尺寸电子枪蒸镀镀膜机. 3. 离子源: 采用美国 KRI 射频离子源 (​http:​/​​/​www.hakuto-vacuum.cn​/​product-list.php?sid=102" \t "_blank​) RFICP 325. 离子源 (​http:​/​​/​www.hakuto-vacuum.cn​/​product-list.php?pid=16​) RFICP 325 提供的离子束 (不论是离子能量还是离子密度) 均是目前业界较高等级, 离子源 (​http:​/​​/​www.hakuto-vacuum.cn​/​product-list.php?pid=16​) RFICP 325 特殊的栅极设计 E22 Grided 可以涵盖 1650 mm 尺寸的蒸镀机中大范围的载具 substrate holder, 无论是生产良率或是均匀性都可达到最高生产效能. 4. 离子源 (​http:​/​​/​www.hakuto-vacuum.cn​/​product-list.php?pid=16​)功能: 通过射频离子源 (​http:​/​​/​www.hakuto-vacuum.cn​/​product-list.php?pid=16​) RFICP 325 实现离子辅助镀膜 IBAD 及预清洁 Pre-clean 功能后, 所生产出的 LED-DBR 无论是亮度测试, 脱膜测试, 顶针测试, 光学特性等等… 都优于目前一般业界蒸镀机所搭配的离子源. 上海伯东射频离子源 (​http:​/​​/​www.hakuto-vacuum.cn​/​product-list.php?sid=102" \t "_blank​)安装案例: KRI RFICP 325 射频离子源 (​http:​/​​/​www.hakuto-vacuum.cn​/​product-list.php?pid=16​)安装于 1650 mm 尺寸电子枪蒸镀镀膜机. KRI 射频离子源 (​http:​/​​/​www.hakuto-vacuum.cn​/​product-list.php?sid=102" \t "_blank​)测试案例: LED-DBR 脱膜测试. 1. 在高倍显微镜下检视脱膜测试 2. 测试结果 ------ 使用其他品牌离子源---     ---------- 使用美国考夫曼 KRI RFICP 325 离子源 ----------- 从上图可以清楚看出, 使用其他品牌离子源, 样品存在崩边的问题; 使用上海伯东美国考夫曼离子源, 样品无崩边   上海伯东美国射频离子源 KRI  RFICP 325 优点: 高离子浓度, 高离子能量, 离子束涵盖面积广 镀膜均匀性佳, 提高镀膜品质 模块化设计, 保养快速方便 增加薄膜附着性, 增加光学膜后折射率 全自动控制设计, 操作简易 低耗材成本, 安装简易 上海伯东是美国考夫曼离子源 (​http:​/​​/​www.hakuto-vacuum.cn​/​product-list.php?pid=16​) Kaufman & Robinson, Inc  中国总代理. 美国考夫曼公司离子源 (​http:​/​​/​www.hakuto-vacuum.cn​/​product-list.php?pid=16​)已广泛应用于离子溅射镀膜 IBSD. 考夫曼离子源 (​http:​/​​/​www.hakuto-vacuum.cn​/​product-list.php?pid=16​)可控制离子的强度及浓度, 使溅射时靶材被轰击出具有中和性材料分子而获得高致密, 高质量之薄膜. 考夫曼离子源 (​http:​/​​/​www.hakuto-vacuum.cn​/​product-list.php?pid=16​)可依客户溅射工艺条件选择 RFICP 射频电源式考夫曼离子源 (​http:​/​​/​www.hakuto-vacuum.cn​/​product-list.php?pid=16​)或是 KDC 直流电原式考夫曼离子源 (​http:​/​​/​www.hakuto-vacuum.cn​/​product-list.php?pid=16​). 若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请联络上海伯东叶女士 KRI 射频离子源测试案例: LED-DBR 脱膜测试.1. 在高倍显微镜下检视脱膜测试2. 测试结果-- 使用其他品牌离子源---     ------ 使用美国考夫曼 KRI RFICP 325 离子源 --------------从上图可以清楚看出, 使用其他品牌离子源, 样品存在崩边的问题; 使用上海伯东美国考夫曼离子源, 样品无崩边