光刻胶中Si检测方案(ICP-MS)

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检测样品: 电子元器件产品
检测项目: Si
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发布时间: 2020-05-20
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珀金埃尔默企业管理(上海)有限公司

钻石22年

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使用ICP、ICP-MS分析时存在光学干扰,而仪器的结构又决定了Si的检出限比其他元素更高,所以为了分析低浓度的Si,必须去除光学干扰或更换仪器进样系统 ( 雾室、雾化器、中心管、炬管 ) 本实验的目的是利用NexION 的 DRC模式确定分析Si的最佳条件。

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版权所有C2019, PerkinElmer, Inc. 保留所有权利。PerkinElmer 是PerkinElmer, Inc. 的注册商标。其它所有商标均为其各自持有者或所有者的财产。 利用ICP-MS分析介绍光刻胶中的Si Si是应用于半导体领域的重要物质,其纯度分析非常重要。在太阳能电池领域, Si的纯度对于生产低成本高效的太阳能电池意义重大,Si的纯度必须高于99.9999%才能提高结晶Si系太阳能电池的转换效率。 在这种情况下,虽然可以用ICP、ICP-MS对高纯硅行行分析,但在预处理过程中必须添加大量HF来使Si完全溶解,分析时存在一定难度。 使用ICP、ICP-MS分析时存在光学干扰,而仪器的结构又决定了Si的检出限比其他元素更高,所以为了分析低浓度的Si,必须去除光学干扰或更换仪器进样系统(雾室、雾化器、中心管、炬管) 本实验的目的是利用NexlON 的 DRC模式确定分析Si的最佳条件。 NexION 300S 实验条件 样品介绍 中心管:Pt中心管 样品介绍:PFA旋流雾室, PFA雾化器 锥体:Pt样品锥,Pt截取锥 DRC气体:100%H,-4mL/min, 10% Ar+90% H,,0, Rpq:0.65 以Si为例,一般使用的雾室、中心管、雾化器均为Si石英材质,使用普通的石英材质时,石英的干扰会加大低浓度Si分析的难难,消隐电平达到几十万点,难以准确分析。 试剂 NMP:高纯度NMP(>99.99%) HNO:使用半导体级以上的高纯度(建议Supra级以上) 瓶子:PFA材质的瓶子(禁止使用玻璃材质的瓶子或烧杯) 结果 校准曲线 图2 Si校准曲线(10、50、100ug/L) Si使用了28质量数,标准溶液浓度为 10、50、100ug/L,通过线性过原点的方式绘制校准曲线。测量结果显示,检出限为11ppb左右,BEC值为208ppb左右, Si分析的背景等效浓度受仪器的背景影响很大。 使用用气作为DRC气体时,blank的信号强度高于600,000cps,无法区别10ppb standard的信号强度与blank的信号强度,至少在200ppb以上浓度绘制校准曲线才能准确地分析,这与不使用DRC,利用标准模式进行分析没有太大的差异。 使用氢气作为DRC气体时,blank的信号强度降至10万~15万cps,检出限降至100ppb以下,背景等效浓度(BEC)约为200ppb。由此可见,与使用氨气反应气相比,检出限更理想。 NMP的主要成分碳会干扰Si,造成基线信号增大,无法进行低浓度测量。氢气作为反应气消除碳干扰的原因是,体积较小的氢气在减少碳的动能的同时,进一步与碳发生反应,减少进入质量分析器的碳的量。使用氦气时,由于它是非活性气体,不与碳发生反应,仅减少动能,此时去除碳干扰的效率会降低。 Cover Binder及光引发剂分析结果 表1 Cover Binder及光引发剂内所含元素的浓度 表2加标回收率 结论 Si 28(ppb) CA001 1-10 37.66 CA001 1-10 spiked 35 72.24 34.58 回收率:(%) 98.81 CA002 1-10 29.66 CA002 1-10 spiked 40 67.45 37.79 回收率(%) 94.47 CA001 1-20 38.35 CA001 1-20 spiked 26 63.58 25.24 回收率(%) 97.06 CA002 1-20 88.94 CA002 1-20 spiked 35 119.89 30.95 回收率(%) 88.43 CA003 1-400 39.87 CA003 1-400 spiked 24 63.46 23.59 回收率((%) 98.28 ◆ 本试验的预处理及分析在洁净室内完成 使用100%H,作为DRC气体时,检出限最佳。如果H,存在危险,可使用O,替代,但检出限比使用H,高,可能难以分析低浓度样品 分析时,进样系统必须全部由石英材质更换为PFA材质才能准确地分析,炬管也尽量使用D-炬管 最好尽量延长仪器的清洗时间,按照NMP+HF+HNO,、NMP+HNO,及NMP的顺序进行清洗最稳定 在Cover Binder及光引发剂中加标后进行测试的结果显示,大部分样品的回收率在90%以上,效果理想。 珀金埃尔默企业管理(上海)有限公司 地址:上海张江高科技园区张衡路1670号 邮编:201203 电话:021-60645888 传真:021-60645999 www.perkinelmer.com.cn PerkinElmer ( 要获取全球办事处的完整列表,请访问http:/ / www.perkinelmer.com.cn/AboutUs/ContactUs/ContactUs ) 使用ICP、ICP-MS分析时存在光学干扰,而仪器的结构又决定了Si的检出限比其他元素更高,所以为了分析低浓度的Si,必须去除光学干扰或更换仪器进样系统 ( 雾室、雾化器、中心管、炬管 )本实验的目的是利用NexION 的 DRC模式确定分析Si的最佳条件。
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珀金埃尔默企业管理(上海)有限公司为您提供《光刻胶中Si检测方案(ICP-MS)》,该方案主要用于电子元器件产品中Si检测,参考标准--,《光刻胶中Si检测方案(ICP-MS)》用到的仪器有PerkinElmer NexION 2000 ICP-MS