电子级硅烷中杂质检测方案(气相色谱仪)
1857年德国化学家H Buff发现硅烷，在以后的100年左右的时间里硅烷只是少数研究者在实验室里研究的对象。20世纪50年代半导体科技崛起，人们开始考虑硅烷的特性，硅烷开始在电子工业中得到应用。随着一系列新技术的出现或者硅烷开发新产品的成功，硅烷用量急剧增加。进入90年代, 更多新功能器件的问世，其中已大规模开发的有超高速、超大容量计算机芯片、高清晰度平面显示器、高效率低成本太阳能电池、高性能陶瓷发动机零件、各种特异功能的传感器等等，伴随更多更新的器件涌现，硅烷的需求量逐渐增加。
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高纯氯化氢中痕量杂质分析检测方案(在线气相色谱)
高纯氯化氢是集成电路生产中硅片蚀刻、钝化、外延、气相抛光、吸杂和洁净处理等工艺的重要材料，也可用于金属冶炼，光导通讯和科学研究等领域。
随着大规模集成电路的发展，对氯化氢纯度的要求越来越高，除了应具有99.999%以上的纯度，对其中杂质的含量要求越来越苛刻，尤其要求严格限制碳氢化合物和碳氧化合物的含量，以防止硅片加工过程中碳的形成。
之前我国大多从美、日等国进口电子级氯化氢，但近年来，我国电子工业所需的化学气体研制，在技术上已有不少突破和发展。国内也有单位已成功开发出相关的电子级氯化氢产品，但还远不能满足市场需求，市场前景广阔。
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仪器信息网行业应用栏目为您提供10篇其他检测方案，可分别用于物理性质检测、化学性质检测、特性检测、功能性测试检测、其它检测，参考标准主要有等