Hakuto IBE离子刻蚀机运用于 PDMS 软刻蚀用母模板研究

报告摘要： 本报告旨在探讨 Hakuto 7.5IBE 离子刻蚀机在制备软刻蚀母模板方面的应用。通过使用伯东公司代理的 KRI 考夫曼公司的 KDC 75 离子源，该设备在操作简便性和制备周期上展现出显著优势，为软刻蚀母模板的高效制备提供了有效解决方案。关键词： Hakuto 7.5IBE 离子刻蚀机，KDC 75 离子源，软刻蚀母模板，PDMS，高效制备1. 引言 随着微纳制造技术的发展，软刻蚀技术因其在微流体、组织工程和生物医学等领域的广泛应用而受到重视。PDMS（聚二甲基硅氧烷）作为一种常用的软刻蚀材料，其母模板的制备质量直接影响到最终产品的性能。Hakuto 7.5IBE 离子刻蚀机以其高效、简便的操作特点，为软刻蚀母模板的制备提供了新的选择。2. Hakuto 7.5IBE 离子刻蚀机概述 Hakuto 7.5IBE 离子刻蚀机是伯东公司代理的一款高性能离子刻蚀设备，其核心构件离子源为 KRI 考夫曼公司的 KDC 75。该离子源由美国考夫曼博士创立，以其卓越的性能和稳定性在行业内享有盛誉。3. 应用背景与研究意义 软刻蚀技术在微纳制造领域具有重要应用，而 PDMS 作为软刻蚀材料的代表，其母模板的制备工艺直接影响到微结构的精度和一致性。Hakuto 7.5IBE 离子刻蚀机的应用，有望提高母模板的制备效率和质量，进而推动相关领域的技术进步。4. 技术原理与操作流程 Hakuto 7.5IBE 离子刻蚀机采用先进的离子束技术，通过精确控制离子束的能量和方向，实现对材料表面的精细刻蚀。操作流程包括模板装载、参数设置、刻蚀过程监控和后处理等步骤，具有操作简便、制备周期短的特点。 案例分析:西南某高校在 PDMS 软刻蚀用母模板研究中有采用到伯东 Hakuto 离子蚀刻机 7.5IBE .Hakuto 离子蚀刻机 7.5IBE 技术规格:真空腔1 set, 主体不锈钢,水冷基片尺寸1 set, 4”/6”ϕ Stage, 直接冷却,离子源ϕ 8cm 考夫曼离子源 KDC75离子束入射角0 Degree～± 90 Degree极限真空≦1x10-4 Pa刻蚀性能一致性: ≤±5% across 4” 该 Hakuto 离子刻蚀机 7.5IBE 的核心构件离子源是配伯东公司代理美国考夫曼博士创立的 KRI考夫曼公司的考夫曼离子源 KDC 75‍ 伯东美国 KRI 考夫曼离子源 KDC75 技术参数： 离子源型号 离子源 KDC 75 DischargeDC 热离子离子束流>250 mA离子动能100-1200 V栅极直径7.5 cm Φ离子束聚焦, 平行, 散射流量2-15 sccm通气Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他典型压力< 0.5m Torr长度20.1 cm直径14 cm中和器灯丝伯东离子蚀刻机应用领域上海伯东是德国 Pfeiffer  真空设备, 美国  KRI 考夫曼离子源, 美国Gel-pak 芯片包装盒, 美国 inTEST 高低温冲击测试机， 日本 NS 离子蚀刻机, 比利时 Stratasys 3D 打印机, 比利时原装进口 Europlasma 等离子表面处理机 和美国 Ambrell 感应加热设备 等进口知名品牌的指定代理商 .我们真诚期待与您的合作!若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请联络 上海伯东: 罗女士上海伯东版权所有, 翻拷必究！