伯东NS 10 IBE离子束刻蚀机用于物理量传感器(MEMS)加工

收藏
检测样品: 传感器
检测项目:
浏览次数: 1
发布时间: 2024-08-16
关联设备: 1种 查看全部
获取电话
留言咨询
方案下载

伯东公司德国普发真空pfeiffer

金牌17年

解决方案总数: 186 方案总浏览次数:
方案详情 产品配置单
上海伯东某科研客户的研究方向是物理量传感器,用于监测土壤的力学结构变化,一般用于山体、岩石和冻土等环境研究。这种传感器通过镀膜、沉积、刻蚀等工艺多次循环来加工,Au 和 Pt 是传感器加工中常用的涂层,在完成镀膜(溅镀 Sputter 或者电子束蒸镀 E-beam)用传统的湿法刻蚀、ICP 刻蚀和 RIE 刻蚀等工艺无法有效的刻蚀出所需的图形。离子束刻蚀 IBE 作为最有效的刻蚀方案可以解决这个问题,刻蚀那些很难刻蚀的硬质或惰性材料。

方案详情

       上海伯东某科研客户的研究方向是物理量传感器,用于监测土壤的力学结构变化,一般用于山体、岩石和冻土等环境研究。这种传感器通过镀膜、沉积、刻蚀等工艺多次循环来加工,Au 和 Pt 是传感器加工中常用的涂层,在完成镀膜(溅镀 Sputter 或者电子束蒸镀 E-beam)用传统的湿法刻蚀、ICP 刻蚀和 RIE 刻蚀等工艺无法有效的刻蚀出所需的图形。离子束刻蚀 IBE 作为最有效的刻蚀方案可以解决这个问题,刻蚀那些很难刻蚀的硬质或惰性材料。伯东研制生产的NS 10 IBE系统可以满足4寸及以下样品的IBE刻蚀,通常应用于以下刻蚀材料:NS 10 IBE设备技术参数如下:基板尺寸4寸样品台干式橡胶卡盘+直接冷却(水冷)+0-±90 度旋转离子源考夫曼源Well-2100(栅网φ100mm)均匀性≤5%(4寸Si晶圆)刻蚀速率20nm/min (Si晶圆)真空度1E-3Pa(45min内)真空系统日本KASHIYAMA干泵+德国普发分子泵NS 10 IBE设备刻蚀速率如下:NS 10 IBE刻蚀数据: 伯东离子蚀刻机主要优点1. 干式制程的微细加工装置, 使得在薄膜磁头, 半导体元件, MR sensor 等领域的开发研究及量产得以广泛应用.2. 物理蚀刻的特性, 无论使用什么材料都可以用来加工, 所以各种领域都可以被广泛应用.3. 配置使用美国考夫曼离子源4. 射频角度可以任意调整, 蚀刻可以根据需要做垂直, 斜面等等加工形状.5. 基板直接加装在直接冷却装置上, 所以可以在低温环境下蚀刻.6. 配置公转自转传输机构, 使得被蚀刻物可以得到比较均匀平滑的表面.7. 机台设计使用自动化的操作流程, 所以可以有非常友好的使用生产过程.伯东离子蚀刻机应用领域上海伯东是德国 Pfeiffer  真空设备, 美国  KRI 考夫曼离子源, 美国Gel-pak 芯片包装盒, 美国 inTEST 高低温冲击测试机, 日本 NS 离子蚀刻机, 比利时 Stratasys 3D 打印机, 比利时原装进口 Europlasma 等离子表面处理机 和美国 Ambrell 感应加热设备 等进口知名品牌的指定代理商 .我们真诚期待与您的合作!若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请联络 上海伯东: 罗女士上海伯东版权所有, 翻拷必究!
确定

还剩4页未读,是否继续阅读?

不看了,直接下载
继续免费阅读全文

该文件无法预览

请直接下载查看

产品配置单

伯东公司德国普发真空pfeiffer为您提供《伯东NS 10 IBE离子束刻蚀机用于物理量传感器(MEMS)加工》,该方案主要用于传感器中无检测,参考标准--,《伯东NS 10 IBE离子束刻蚀机用于物理量传感器(MEMS)加工》用到的仪器有伯东离子蚀刻机 IBE