氦质谱检漏仪脉冲激光沉积系统 PLD 检漏

‍‍Pfeiffer 氦质谱检漏仪脉冲激光沉积系统 PLD 检漏脉冲激光沉积系统 PLD脉冲激光沉积系统 Pulsed laser deposition 是制备高通量多晶薄膜, 外延薄膜和多层异质结构和超晶格结构的物理气相沉积设备, 通常需要保证本底真空度达到 10-8mbar, 同时高真空环境对系统配置的 RHEED 及温控系统等关键设备的寿命也至关重要.脉冲激光沉积系统 PLD 需要检漏原因PLD 系统需要高真空环境, 腔室是否有泄露, 是否有内部材料放气等因素对实现高真空及超高真空很关键. 因此需要对整个系统进行泄漏检测. 氦质谱检漏仪利用氦气作为示踪气体可精确定位, 定量漏点. 因此广泛应用于 PLD 设备检漏.脉冲激光沉积系统 PLD 检漏客户案例: 上海伯东某客户 PLD 设备用来制备各种材料, 为了保证产品质量, 采购氦质谱检漏仪 ASM 340 搭配使用.生长多层膜（TiN/ALN）结构, 各层膜厚度可调高通量制备具有不同材料成分的100种材料PLD 制备的 Ag 的纳米多孔材料脉冲激光沉积系统 PLD 检漏方法采用真空模式检漏, 通过波纹管连接需要检漏的腔体, 设定好需要的漏率值在怀疑有漏的地方喷氦气（一般需要检漏的部位是焊缝或连接处）,如果有漏,检漏仪会出现声光报警同时在屏幕上显示当前漏率值.上海伯东推荐 Pfeiffer 氦质谱检漏仪 ASM 340 三种类型可选型号ASM 340 WETASM 340 DASM 340 I对氦气的最小检测漏率, 真空模式5E-13 Pa m3/s5E-13 Pa m3/s5E-13 Pa m3/s检测模式真空模式和吸枪模式真空模式和吸枪模式真空模式和吸枪模式检测气体4He, 3He, H24He, 3He, H24He, 3He, H2对氦气的抽气速度 l/s2.52.52.5进气口最大压力 hPa25255前级泵抽速 m3/h油泵 15隔膜泵 3.4不含前级泵重量 kg564532结合了 Pfeiffer 与 Adixen 两家检漏仪的技术优势, 上海伯东德国 Pfeiffer 推出全系列新型号氦质谱检漏仪, 从便携式检漏仪到工作台式检漏仪满足各种不同的应用. 氦质谱检漏仪替代传统泡沫检漏和压差检漏, 利用氦气作为示踪气体可精确定位, 定量漏点. 氦质谱检漏仪满足单机检漏, 也可集成在检漏系统或 PLC. 推荐氦质谱检漏仪应用 >>鉴于客户信息保密, 若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请参考以下联络方式上海伯东: 罗先生      ‍‍