晶圆级轻量化移动结构中变形量检测方案(激光干涉仪)

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检测样品: 其他
检测项目: 变形量
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发布时间: 2020-03-19
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QUANTUM量子科学仪器贸易(北京)有限公司

金牌18年

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半导体光刻系统中的晶圆轻量化移动结构的变形阻碍了高通量的半导体制造过程。为了补偿这些变形,需要的测量。来自理工大学荷兰Eindhoven University of Technology 的科学家设计了一个基于德国attocube干涉仪IDS3010的测量结构,以此来详细地研究因为光压而导致的形变特性。

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QuantumDesign www.qd-china.com CHINA 皮米精度激光干涉仪 Real-Time Displacement Sensor for Machine Integration For Scientist By Scientist 德国attocube公司的皮米精度激光干涉仪充分满足高分辨位移于定位的工业和科研需要,其紧凑的设计和稳定的性能可以在极端环境中使用,在极大的位移测量范围内,达到1 pm 的位移分辨率和高达 10 MHz 的采样速率,应用范围遍及闭环扫描器校准,样品或模块位移,精密加工业,精密制造等等域。 激光探头 IDS3010 皮米精度激光干涉仪 主要技术参数 测量精度高,分辨率高达 1pm 高达1MHz 的测量速度 提供最大5m 的工作距离 体积小巧 (55X52X195mm),便于集成 古 丰富的通讯接口,支持多种通讯协议 配置环境补偿单元ECU 功能丰富的软件 Wave 650nm 的准直激光,便于快速准直 Quantum Design 中国子公司 CHINA 应用案例 IDS 激光干涉仪检测纳米精度位移台 IDS3010组建同步辐射高精度X射线显微镜(STXM) 国内外部分客户 C 清华大学,北京大学,复旦大学,中国科技大学,南京大学,哈尔滨工业大学 中科院(物理所、半导体所、上海应用物理研究所、苏州纳米所、武汉数学物理研究所)... V19-1 半导体光刻系统中的晶圆级轻量化移动结构的变形阻碍了高通量的半导体制造过程。为了补偿这些变形,需要精确的测量。来自世界顶尖理工大学荷兰Eindhoven University of Technology 的科学家设计了一个基于德国attocube干涉仪IDS3010的测量结构,以此来详细地研究因为光压而导致的形变特性。图一所示为测量装置示意图,测量装置由5 x 5 共计25个M12/F40激光探头组成的网格,以此来实现监测纳米级的无轴承平面电机内部的移动器变形。实验的目的是通过对无轴承的平面的力分布进行适当的补偿,从而有效控制转台的变形。实验测得最大形变量为544nm,最小形变量为110nm(如图二所示)。图一 左侧5X5排列探头测量装置示意图,右图为实物图图二 无轴承磁悬浮机台形变量的测量结果,最大形变量为544nm参考文献:Measuring the Deformation of a Magnetically Levitated Plate displacement sensor.
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QUANTUM量子科学仪器贸易(北京)有限公司为您提供《晶圆级轻量化移动结构中变形量检测方案(激光干涉仪)》,该方案主要用于其他中变形量检测,参考标准--,《晶圆级轻量化移动结构中变形量检测方案(激光干涉仪)》用到的仪器有皮米精度激光干涉仪-IDS3010