上海伯东 KRI 考夫曼射频离子源 RFICP220 溅射沉积钛金属薄膜

钛金属具有许多优异的性能, 例如低密度/ 高熔点/ 耐腐蚀/ 无磁性和硅基衬底结合力好/ 具有形状记忆和吸氢特性等, 因此对于磁控溅射沉积钛薄膜的研究有很多.上海某大学研究室在多层钛膜做微观结构的研究中采用 KRI 考夫曼射频离子源 RFCIP220 溅射沉积钛薄膜做加热电路提高器件温度,从而提高光波导器件中硅材料的折射率. 伯东 KRI 射频离子源 RFICP220 技术参数:离子源型号RFICP220DischargeRFICP 射频离子束流>800 mA离子动能100-1200 V栅极直径20 cm Φ离子束聚焦,  平行,  散射流量10-40 sccm通气Ar,  Kr,  Xe,  O2,  N2,  H2,  其他典型压力< 0.5m Torr长度30 cm直径41 cm中和器LFN 2000* 可选: 灯丝中和器; 可变长度的增量 KRI 离子源的独特功能实现了更好的性能, 增强的可靠性和新颖的材料工艺. KRI 离子源已经获得了理想的薄膜和表面特性, 而这些特性在不使用 KRI 离子源技术的情况下是无法实现的. 因此, 该研究项目才采用 KRI 考夫曼射频离子源 RFCIP220 辅助溅射沉积工艺. 上海伯东是德国 Pfeiffer 真空设备, 美国 KRI 考夫曼离子源, 美国 inTEST 高低温冲击测试机, 美国 Ambrell 感应加热设备和日本 NS 离子蚀刻机等进口知名品牌的指定代理商 .我们真诚期待与您的合作！若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请参考以下联络方式：上海伯东: 罗女士                             台湾伯东: 王女士T: +86-21-5046-1322                     T: +886-03-567-9508 ext 161F: +86-21-5046-1490                             F: +886-03-567-0049M: +86 152-0195-1076                       M: +886-939-653-958上海伯东版权所有, 翻拷必究！