氦质谱检漏仪 PECVD 检漏

‍‍氦质谱检漏仪 PECVD 检漏上海伯东代理德国 Pfeiffer 多功能多用途氦质谱检漏仪 ASM 340 成功应用于 PECVD 设备检漏PECVD: ( Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition 等离子体增强化学气相沉积法 )是借助微波或射频等使含有薄膜组成原子的气体电离, 在局部形成等离子体, 而等离子体化学活性很强, 很容易发生反应, 在基片上沉积出所期望的薄膜. 为了使化学反应能在较低的温度下进行, 利用了等离子体的活性来促进反应, 因而这种 CVD 称为等离子体增强化学气相沉积 (PECVD).PECVD 检漏原因: PECVD 工作环境需要两个必要条件: 低温和真空, 由于 PECVD 结构复杂, 组成部分较多, 各组件通过各种法兰接口连接, 当长时间运行时可能造成接口或管路松动, 设备漏气, 导致真空度抽不下来, 影响沉积薄膜的质量, 这时就需要通过检漏来排查漏点. 常规的检漏如涂肥皂水等方法, 耗时耗力且精度低, 容易受操作人员干扰, 所以利用氦质谱检漏仪的排查方法越来越广泛使用.上海伯东 PECVD 设备检漏仪客户案例一: 中科院某研究所, 通过采购上海伯东德国 Pfeiffer 机械泵 Pfeiffer DUO 20 和分子泵 Hipace 1200 联用获得稳定的高真空并追加采购检漏仪, 满足日常检漏需要.PECVD 检漏方法: 采用检漏仪的真空法进行检漏, 对怀疑有漏的地方喷氦气, 如果检漏仪报警, 则表明此处有漏! 伯东客户中科院某研究所目前现有多台旧款 Adixen ASM 142 检漏仪, 因为设备增加, 在经过工程师推荐后采购检漏仪 ASM 340.上海伯东 PECVD 设备检漏仪客户案例二: 某电子材料有限公司生产太阳能硅片, 高效 N型太阳能电池等, 生产设备采用荷兰TEMPRESS PECVD, 依照工艺要求, 在1分钟的测试时间内, 压力变化不能超过 4mtorr, 否则就要检漏. 氦质谱检漏仪主要用来定位漏点, 针对进出气管道, 焊接处, 法兰都位置进行检漏 ,一般漏率要求在 1.0×10-8 mbarl/s.* 鉴于信息保密，更详细的 PECVD 检漏方法，欢迎拨打客服热线：021-5046-3511若您需要进一步的了解详细信息或讨论，请参考以下联络方式：上海伯东：罗先生        ‍‍