特点:
• 耐酸碱保护胶
• 不含光敏物质,无需黄光室
• 在40% KOH或50% HF酸中可长时间稳定
• 通过双层工艺可实现正性(AR-P 3250) 或负性(AR-N 4400-05/10)光刻工艺
旋涂曲线:
应用实例:
欢迎致电咨询(电话:010-82867920/21/22),更多光刻胶信息请查看官网:http://www.germantech.com.cn/new/cplook.asp?id=514
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