电子束光刻胶 AR-N 7720

特点：

• 用于三维电子束曝光、混合曝光等

• 感光波段：e-beam、deep UV(248 nm)

• 紫外曝光波段： 

  负胶：248nm~265nm & 290nm~330nm

• 化学放大胶，高灵敏度，低对比度(< 1)

• 良好的耐干法刻蚀能力

旋涂曲线：

应用实例：

欢迎致电咨询（电话：010-82867920/21/22），更多光刻胶信息请查看官网：http://www.germantech.com.cn/new/cplook.asp?id=514

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