紫外光刻胶 AR-P 3510，3540；AR-P3510(T)，P3540(T)

特点：

• 用于IC掩膜板加工等

• 感光波段：Broadband UV、i-line(365nm)、g-line(436nm)

• 良好的耐刻蚀性能，粘附性强，工艺宽容度大

• 适合于工业通用的0.26 n的碱性显影工艺

• 3500T系列比原3500系列具备更高的分辨率和对比度

旋涂曲线：

应用实例：

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