紫外光刻胶 AR-N 4340

特点：

• 用于集成电路加工、lift-off工艺、激光干涉曝光等

• 感光波段：i-line(365nm)、g-line(436nm)

• 化学放大胶，具有非常高的灵敏度

• 高分辨率、高对比度

• 可得到undercut结构，用于lift-off工艺

旋涂曲线：

应用实例：

欢迎致电咨询（电话：010-82867920/21/22），更多光刻胶信息请查看官网：http://www.germantech.com.cn/new/cplook.asp?id=514

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