特点：
• 用于耐刻蚀工艺、电镀、LIGA、MEMS等
• 感光波段：Broadband UV、i-line(365nm)
g-line(436nm)、 e-beam、X-ray、synchrotron
• 涂胶厚度从几微米到上百微米不等
• 覆盖能力强，分辨率高，图形边缘结构陡直
• 化学放大胶，具有非常高的灵敏度
• 可得到undercut结构，用于lift-off工艺
• 可替代SU8胶
旋涂曲线：
应用实例：
欢迎致电咨询（电话：010-82867920/21/22），更多光刻胶信息请查看官网：http://www.germantech.com.cn/new/cplook.asp?id=514
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