紫外光刻胶 AR-N 4600 (Atlas 46)

特点：

• 紫外负胶（厚胶），适用于 LIGA 及 MEMS应用

• 涂胶厚度 10μm@1000rpm， 可提供更高厚度（200μm）

• SX AR-N 4600-10 : 结构稳定性好、重复性好，厚度可达几百 

微米，适用于永久保留胶体结构的应用

• SX AR-N 4650-10 : 容易去胶，适合于电铸工艺

旋涂曲线：

应用实例：

欢迎致电咨询（电话：010-82867920/21/22），更多光刻胶信息请查看官网：http://www.germantech.com.cn/new/cplook.asp?id=514

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