特点:
• 用于耐刻蚀工艺、电镀、LIGA、MEMS等
• 感光波段:Broadband UV、i-line(365nm)、g-line(436nm)
• 涂胶厚度从几微米到上百微米,覆盖能力好,图形边缘陡直
• 3220透明度高,100μm胶厚(多层涂胶工艺)也可正常曝光
• 具有良好的耐干法和湿法刻蚀能力
旋涂曲线:
应用实例:
欢迎致电咨询(电话:010-82867920/21/22),更多光刻胶信息请查看官网:http://www.germantech.com.cn/new/cplook.asp?id=514