紫外光刻胶 AR-P 3200（AR-P 3210，3220，3250）

特点：

• 用于耐刻蚀工艺、电镀、LIGA、MEMS等

• 感光波段：Broadband UV、i-line(365nm)、g-line(436nm)

• 涂胶厚度从几微米到上百微米，覆盖能力好，图形边缘陡直

• 3220透明度高，100μm胶厚(多层涂胶工艺)也可正常曝光 

• 具有良好的耐干法和湿法刻蚀能力 

旋涂曲线：

应用实例：

欢迎致电咨询（电话：010-82867920/21/22），更多光刻胶信息请查看官网：http://www.germantech.com.cn/new/cplook.asp?id=514