特点:
• 耐高温紫外正胶
• 感光波段:Broadband UV、i-line(365nm)、g-line(436nm)
• 具有非常好的耐刻蚀稳定性,热稳定性高达300℃
• 应用于高温双层剥离结构以及等离子体刻蚀和离子注入应用
• 溶剂为PGMEA
旋涂曲线:
应用实例:
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