原子层沉积ALD
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VEECO

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Phoenix

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美洲

  • 银牌
  • 第2年
  • 一般经销商
  • 营业执照已审核
核心参数

Phoenix – 批量生产原子层沉积

生产能力

Phoenix®系统经过精心设计,可在从中试生产到工业级制造的任何制造环境中实现高吞吐量和最长的正常运行时间。技术人员和研究人员依靠 Phoenix® 在平面和 3D 基板上实现可重复、高精度的薄膜沉积。Phoenix®支持多达6条独立的前驱体生产线,可根据您的薄膜需求提供固体、液体或气体工艺化学成分。紧凑的占地面积和创新的设计使Phoenix®成为具有批量生产ALD要求的人们的实用选择。

主要功能包括:

  • 对工艺参数(包括温度、流量和压力)进行精确的软件控制,即使在最敏感的基材上也能实现无缺陷的涂层

  • 获得专利的 ALD Shield™ 蒸汽捕集器可防止沉积物积聚,并最大限度地减少多余的工艺气体排放到环境中

  • 大型工艺室可容纳 GEN 2.5 衬底、多个晶圆盒和更大的 3D 物体

  • 拥有成本低,启动和运营成本最低

  • 占地面积小,可节省宝贵的洁净室空间

  • 标准配方和 ALD 材料一应俱全

  • 来自技术团队和博士科学家的全球全面支持和服务

  • 符合 CE、FCC 和 CSA 标准,具有许多内置安全功能




售后服务承诺

产品货期: 60天

整机质保期: 1年

培训服务: 安装调试现场免费培训

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VEECO外延系统Phoenix的工作原理介绍

外延系统Phoenix的使用方法?

VEECOPhoenix多少钱一台?

外延系统Phoenix可以检测什么?

外延系统Phoenix使用的注意事项?

VEECOPhoenix的说明书有吗?

VEECO外延系统Phoenix的操作规程有吗?

VEECO外延系统Phoenix报价含票含运吗?

VEECOPhoenix有现货吗?

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