产地类别： 国产
衬底加热： 极限真空：5×10^（-9）mbar
本底真空度： 温度：1200℃
靶： 6个1吋或3个2吋
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脉冲激光沉积系统PLD-400是高校和科研院所常用的氧化物和多组分薄膜沉积设备,该设备具有简单可靠、运行稳定的特点。脉冲激光沉积系统PLD-400标配6个1inch靶材,靶材可以原位更换,配合RHEED和准分子激光器可以实现高质量薄膜的沉积。
晶圆尺寸：2 inch
极限真空：5×10-9mbar
温控：RT-1200°C
靶台数量：6个1inch 靶材，公自转设计
激光源：可选准分子激光器
可选：低温泵、自动传输、反应溅射、膜厚仪、工艺菜单、高压RHEED等
产品货期: 240天
整机质保期: 1年
培训服务: 安装调试现场免费培训
安装调试时间: 到货后10天内
电话支持响应时间: 2小时内
是否提供维保合同: 是
维修响应时间: 1天内
节假日是否提供上门服务: 是
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