磁控溅射系统MS-400
磁控溅射系统MS-400

¥50万 - 260万

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致真精密仪器

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MS-400

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中国大陆

  • 金牌
  • 第1年
  • 一般经销商
  • 营业执照已审核
核心参数

仪器种类: 磁控溅射镀膜机

产地类别: 国产

应用领域: 微电子学

基片尺寸: 最大4吋向下兼容

基片温度范围: RT800℃-1200℃

成膜厚度均匀性: ±2%

极限真空: 优于1×10^(-8)mbar(胶圈密封)

  • 阴极: 6-7个2吋

产品介绍

磁控溅射系统MS-400是一款多功能多靶磁控溅射系统,具有超高真空,单原子层沉积精度,设备维护简单的特点。磁控溅射系统MS-400标配6个2inch共焦超高真空阴极,满足实验室或企业实验室中工艺研究的需求,维护简单,运行稳定。

晶圆尺寸

4inch向下兼容

镀膜均匀性

士2%

极限真空

5x10-9mbar(金属密封)

温控

RT-1000°C

沉积精度

0.1nm

可选

共焦溅射、低温泵、垂直溅射、自动传输、反应溅射、膜厚仪、工艺菜单等


磁控最后一张.png


售后服务承诺

产品货期: 240天

整机质保期: 1年

培训服务: 安装调试现场免费培训

安装调试时间: 到货后10天内

电话支持响应时间: 2小时内

是否提供维保合同:

维修响应时间: 1天内

节假日是否提供上门服务:

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