仪器种类： 磁控溅射镀膜机
产地类别： 国产
应用领域： 微电子学
基片尺寸： 最大4吋向下兼容
基片温度范围： RT800℃-1200℃
成膜厚度均匀性： ±2%
极限真空： 优于1×10^（-8）mbar（胶圈密封）
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产品介绍
磁控溅射系统MS-400是一款多功能多靶磁控溅射系统,具有超高真空，单原子层沉积精度,设备维护简单的特点。磁控溅射系统MS-400标配6个2inch共焦超高真空阴极,满足实验室或企业实验室中工艺研究的需求，维护简单,运行稳定。
晶圆尺寸
4inch向下兼容
镀膜均匀性
士2%
极限真空
5x10-9mbar(金属密封)
温控
RT-1000°C
沉积精度
0.1nm
可选
共焦溅射、低温泵、垂直溅射、自动传输、反应溅射、膜厚仪、工艺菜单等
产品货期: 240天
整机质保期: 1年
培训服务: 安装调试现场免费培训
安装调试时间: 到货后10天内
电话支持响应时间: 2小时内
是否提供维保合同: 是
维修响应时间: 1天内
节假日是否提供上门服务: 是
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