看了湿法腐蚀/刻蚀设备的用户又看了
SENTECH AL 实时监测器是一种经过验证的光学诊断工具，可实现单个 ALD 和 ALE 周期的超高分辨率。主要应用是在不破坏真空的情况下分析薄膜特性（生长速率、厚度、折射率以及蚀刻速率），在短时间内开发新工艺，以及实时研究 ALD 和 ALE 周期期间的反应机理。
使用单原子层沉积 （ALD） 或原子层蚀刻 （ALE） 循环可以快速轻松地开发和优化原子层工艺。SENTECH AL 实时监测器以 40 ms 的超高时间分辨率显示吸附和解吸。节省了工艺、基材、前驱体和气体的开发时间。
使用 SENTECH AL 实时监控器进行优化后，ALD 处理变得更加高效。节省了前驱体和处理时间。
当前驱体供应耗尽时，SENTECH AL实时监测器检测到的每个周期的生长变化会立即显示出来。
灵活性和模块化
创新的 SENTECH AL 实时监测器专为快速高效的工艺开发和优化而设计，可使用 SENTECH PEALD 和 ALD 系统进行优化。
一个软件即可轻松操作 SENTECH PEALD 系统、SENTECH ALE 系统和 SENTECH AL 实时监测器。
用于光学常数的大型材料库支持新工艺的开发，并可以通过非原位表征进行扩展。
SENTECH AL 实时监控器集成到 SENTECH SIA 操作软件中，确保操作简单。
产品货期: 60天
整机质保期: 1年
培训服务: 安装调试现场免费培训
德国SENTECH湿法刻蚀设备SENTECH AL的工作原理介绍
湿法刻蚀设备SENTECH AL的使用方法?
德国SENTECHSENTECH AL多少钱一台?
湿法刻蚀设备SENTECH AL可以检测什么？
湿法刻蚀设备SENTECH AL使用的注意事项？
德国SENTECHSENTECH AL的说明书有吗？
德国SENTECH湿法刻蚀设备SENTECH AL的操作规程有吗？
德国SENTECH湿法刻蚀设备SENTECH AL报价含票含运吗？
德国SENTECHSENTECH AL有现货吗？
