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◇ 可以进行大范围为 5mm 的批量抽取。
◇ 采用大电流800nA的大电流机型，可实现超越电子束光刻常识的高吞吐量微细加工。
◇ 配备业界快扫描频率400MHz的高速扫描系统。
◇可曝光12英寸晶圆的整个表面。
◇通过与自动晶圆传送系统（EFEM）对接，可实现机器人多阶段加工。
产品特点
◇ 可以进行大写场尺寸5mm的一次性整体曝光。
实现了业界大的5mm偏转，由于一次性整体曝光的范围扩大，所以非常适用于客户比较在意写场拼接误差的应用。另外，由于样品面内的样品台移动次数减少了，所以对于高产量的微纳加工很有帮助。
◇ 采用大束流800nA的大电流电子光学系统
搭载大电流800nA的大电流电子光学系统，可进行超越电子光刻常识的高处理能力的微纳加工。到现在为止，用激光光刻技术或者光刻制作的µm ~ mm等的图案也能进行高质量曝光。
◇ 业界快速扫描频率400Hz
到现在为止，用大电流进行曝光时，从小Dose Time和合适的dose量平衡考虑，有必要设定更大的Shot pitch。在400Hz扫描频率下，小的Dose Time为传统的1/4，可实现以不可能的大电流和小Pitch曝光，实现更高速度和更高质量的曝光。
主要规格
电子枪 | ZrO/W 热场发射型 | |||
加速电压 | 50 kV | |||
光束电流 | 1 nA ～ 800 nA | |||
小光束直径 | D 10 nm | |||
标准写场大小 | 5000 μm□ | |||
小/大写场大小 | 小 1000 μm□ 大 5000 μm□ | |||
扫描频率 | 大 400 MHz | |||
发射间距 | 小 1.0nm | |||
大试样尺寸 | 8" 晶片 / 12" 晶片 | |||
大绘图区域 | 200 mm x 200 mm / 300 mm x 300 mm | |||
输送机构 | 单自动加载器 多自动加载器 机器人装载机 | |||
Software | elms •射束调整功能 •曝光文件功能 •图案数据转换功能 •帐户管理功能 •Python脚本 | |||
产品货期: 60天
整机质保期: 1年
培训服务: 安装调试现场免费培训
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