看了化学机械抛光机（CMP）的用户又看了
POLI-762是小型12英寸CMP机台，采用手动装片方式，可选配半自动loading托盘，气囊薄膜柔性加压，可配置摩擦力&温度终点监控系统，用于氧化物、金属、STI、SOI、MEMS等产品的平坦化抛光，应用广泛。
具备气囊背压功能，抛光盘内置冷却系统，可选配摆臂式修整器、摩擦力&温度检测终点监控功能、分区加压系统
PC控制系统，触摸屏控制，可选配半自动loading托盘，一键式自动完成CMP加工
3路独立供液管路，便捷更换式抛光盘，可更换4、6、8、12英寸抛头，兼容不同尺寸、类型的晶圆
尽量减少洁净间的占地面积
产品货期: 60天
整机质保期: 1年
培训服务: 安装调试现场免费培训
特思迪化学机械平坦CMP设备POLI-762的工作原理介绍
化学机械平坦CMP设备POLI-762的使用方法?
特思迪POLI-762多少钱一台?
化学机械平坦CMP设备POLI-762可以检测什么？
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特思迪POLI-762的说明书有吗？
特思迪化学机械平坦CMP设备POLI-762的操作规程有吗？
特思迪化学机械平坦CMP设备POLI-762报价含票含运吗？
特思迪POLI-762有现货吗？
