看了null的用户又看了
v 产品概述：原子层沉积（Atomic layer deposition)是一种可以将物质以单原子膜形式一层一层的镀在基底表面的方法
v 工艺温度： RT~400°C 精度：土1°C（可定制）
v 前驱体路数：最大支持6路前驱体气路（可定制)，包含固、液态前驱体源瓶
v 加热系统：可加热温度范围：RT~150℃
v 反应物路数：支持2路反应物气路（可定制）
v 载气：标准：N2, MFC 流量控制（可定制）
v 高真空系统：高性能分子泵，支持对高真空的真空度需求
设备支持“一键沉积”功能，点击运行按键即可自动完成真空抽取、升温、材料沉积、降温等一系列步骤。实现单一或多层材料的沉积；提供独立的手动操作页面，支持手动开关阀门的操作，人机交互同时支持鼠标、键盘和触摸的输入方式
产品货期: 60天
整机质保期: 1年
培训服务: 安装调试现场免费培训
