看了null的用户又看了
v 产品概述:原子层沉积(Atomic layer deposition)是一种可以将物质以单原子膜形式一层一层的镀在基底表面的方法
v 工艺温度: RT~400°C 精度:土1°C(可定制)
v 前驱体路数:最大支持6路前驱体气路(可定制),包含固、液态前驱体源瓶
v 加热系统:可加热温度范围:RT~150℃
v 反应物路数:支持2路反应物气路(可定制)
v 载气:标准:N2, MFC 流量控制(可定制)
v 高真空系统:高性能分子泵,支持对高真空的真空度需求
设备支持“一键沉积”功能,点击运行按键即可自动完成真空抽取、升温、材料沉积、降温等一系列步骤。实现单一或多层材料的沉积;提供独立的手动操作页面,支持手动开关阀门的操作,人机交互同时支持鼠标、键盘和触摸的输入方式
产品货期: 60天
整机质保期: 1年
培训服务: 安装调试现场免费培训
最多添加5台