产地类别： 进口
衬底尺寸： 200mm
工艺温度： 200℃
前驱体数： Up to 4
看了原子层沉积设备的用户又看了
OpAL系统是一种带有等离子体选项的直开式热原子层沉积（ALD）设备。 它可通过清晰而易行的途径升级为等离子体 ALD，这样便可在一个结构紧凑的设备上实现等离子体和热ALD。
紧凑型直开式热原子层沉积（ALD）设备，带有等离子选项
适用于小尺寸至200mm的晶圆片
蒸汽吸取或鼓泡四种液体或固体前驱体
实时检测选项，包括与ALD控制软件相联的光谱椭偏仪
ALD产品家族涵盖的系列设备可以满足学术界、企业研发和小规模生产的多种需求
实时监测选项，包括与ALD控制软件相联的光谱椭偏仪
OpAL系统可通过清晰而易行的途径升级为等离子体，这样便可在一个结构紧凑的设备上实现等离子体和热ALD
牛津仪器有大量的工艺储备，并且还在不断开发新的工艺。我们为所有的ALD设备提供终身免费的、延续不断的工艺支持，我们还将为您提供关于开发新材料的建议，同时继续与您共享包括新工艺配方在内的新的ALD工艺进展。
可配备带有样品传送入口的氮气吹扫手套箱 - 适用于干燥环境
易于拆卸的内腔室 - 减少腔室清洗时间
机柜可安装在抽气管路上并附带氮气吹扫 - 以确保健康和安全的承诺
气动起重装置 - 用于安全打开腔室
可配备抽气罩或氮气吹扫手套箱 - 以确保健康和安全的承诺
纳米电子
高K栅氧化物
存储电容电介质
用于Cu互连的高深宽比扩散隔层
用于OLED和聚合物的无针孔钝化层
用于晶体硅太阳能电池的钝化
用于微流体和MEM的高保形涂层
纳米多孔结构的涂层
生物MEMS
燃料电池
半导体 2019-07-31
半导体 2019-07-31
牛津仪器Etch刻蚀工艺
型号：Etch 面议
牛津仪器PlasmaPro100 Estrelas刻蚀设备
型号：PlasmaPro100 Estrelas 80万 - 100万
牛津仪器PlasmaPro100 ALE原子层刻蚀
型号：PlasmaPro100 ALE 面议
牛津仪器PlasmaPro 100 Polaris单晶圆刻蚀系统
型号：PlasmaPro 100 Polaris 80万 - 100万•Etch rates 2 to 7Å/cycle •Demonstrated results in a-Si, Si, SiO2, MoS2 layer etching •Fast recipe control down to 10ms •ALD-style gas dose delivery using “ALD valves” with 10ms open-close response •Ultra low power operation •Ability to etch in ALE or normal etch mode
牛津仪器原子层沉积ALD OpAL的工作原理介绍
原子层沉积ALD OpAL的使用方法?
牛津仪器ALD OpAL多少钱一台?
原子层沉积ALD OpAL可以检测什么？
原子层沉积ALD OpAL使用的注意事项？
牛津仪器ALD OpAL的说明书有吗？
牛津仪器原子层沉积ALD OpAL的操作规程有吗？
牛津仪器原子层沉积ALD OpAL报价含票含运吗？
牛津仪器ALD OpAL有现货吗？
