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PICOSUN® R-200标准型ALD系统适用于数十种应用领域的研发,如IC组件、MEMS器件、显示器、LEDs、激光器,以及3D物品,如透镜、光学器件、首饰、硬币和医用植入物。
底尺寸和类型 | 50 – 200 mm /单片 156 mm x 156 mm 太阳能硅片 3D 复杂表面衬底(使用Showerhead喷洒淋浴模式效果更佳) 粉末与颗粒(配备扩散增强器) 多孔,通孔,高深宽比(HAR)样品 |
工艺温度 | 50 – 500 °C, 450 °C(加等离子) |
基片传送选件 | 气动升降(手动装载) 预真空室安装磁力操作机械手(Load lock ) |
前驱体 | 液态、固态、气态、臭氧源、等离子体 6根独立源管线,最多加载12个前驱体源(加上plasma管路共7根独立源管线) |
重量 | 350kg |
尺寸( W x H x D)) | 146 cm x 146 cm x 84 cm(小) 189 cm x 206 cm x 111 cm(大) |
选件 | PICOFLOW™扩散增强器,集成椭偏仪,QCM, RGA,N2发生器,尾气处理器,定制设计,手套箱集 成(用于惰性气体下装载)。 |
工艺 | Al2O3, TiO2, SiO2, Ta2O5, HfO2, ZnO, ZrO2,AlN, TiN,金属如Pt或Ir |
产品货期: 90天
整机质保期: 1年
培训服务: 安装调试现场免费培训
维修响应时间: 2天内
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