看了原子层沉积设备的用户又看了
ALE(Atomic layer etch)和ASD(area selective deposition)设备.
-设备由2个Process module 和传送用 Transfer module 构成的 Cluster type。 并使用工艺整合一体化程序.
-拥有500℃以上高温及臭氧和等离子工艺能力,专为开发半导体元件的次世代的设备.
ALE(原子层刻蚀)设备区别ALD(原子层沉积)设备是一款可利用原子层单位刻蚀沉积膜的设备,ASD(区域选择沉积)区别ALD(原子层沉积)则是选择性指定区域原子层沉积的设备.
目前很多学校,研究所以及企业采用ALE和ASD工艺积极研发未来最尖端集成元件.
保修期: 1年
是否可延长保修期: 是
现场技术咨询: 有
免费培训: 1次现场培训
免费仪器保养: 根据需要，可协商
保内维修承诺: 24小时响应
报修承诺: 24小时响应
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