产地类别： 进口
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仪器简介：
膜厚仪适用于半导体，FPD，太阳能电池（ＡＲＣ）、纳米技术，电子材料及特殊薄膜等的膜厚及其相关光学参数的测量。
目前该产品已广泛应用于半导体、平板显示（ＴＦＴ－ＬＣＤ，ＯＬＥＤ），聚合物、化学材料、太阳能电池、纳米薄膜材料等的企业，研发实验室，高校研究所等。
技术参数：
－检测内容：薄膜厚度，ｎ，ｋ，反射率 －波长范围：３８０～１０００ｎｍ（紫外，近红外，红外可选） －样品尺寸：4"~12" ( 更大样品尺寸可订制）
－测量范围及检测膜层： 10nm~50um
－光斑尺寸： 40um,20um、10um,5um
－测量速度： <1sec./site
－重复性：+/-1A
主要特点：
－易于操作 ＆ 快速检测
－非接触式、非破坏
－高重复性
－可实时检测
－Ｘ－，Ｙ－，Ｚ－自动ｍａｐｐｉｎｇ（可选）
根据客户需要：
可增加自动聚焦、ｍａｐｐｉｎｇ、３Ｄ，透过率模块，微小光斑，订制各种尺寸样品台。。。。
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