原子层沉积系统(ALD)  P-300 Advanced
原子层沉积系统(ALD)  P-300 Advanced

¥100万 - 200万

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Picosun

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P-300 Advanced

--

欧洲

  • 银牌
  • 第22年
  • 一般经销商
  • 营业执照已审核
该产品已下架
核心参数

Picosun™ 300mm生产线上的产品是300mm以下晶圆的自动化、高产量的工业ALD加工设备。包括PICOSUN™ P系列Pro和Advanced ALD设备。该工具可以独立工作,也可以集成到PICOPLATFORM™300真空集群系统以达到更高的产量和自动化水平。为了节约昂贵的设施空间,所有PICOSUN™的ALD系统有着紧凑、高效的设计。集成的专业机柜,装载着前驱体和电子元件,保证了快速简便的维护和最短的停机时间。PICOSUN™ P系列工具保证了最大产能以及最节约成本的情况下得到优秀的ALD工艺质量,并履行严格的现代半导体产业的生产力和安全要求。
工艺咨询和开发,产能提升,维护保养流程和系统及工艺的故障排除,我们客户化定制的PICOSUPPORT™综合解决方案24小时快速响应,随时待命。在购买之前,我们的演示服务保证了设备可以100%满足客户最苛刻的产线需求。

客户使用PICOSUN™ R系列ALD 设备在150mm和200mm(6“和8”)晶圆上所沉积薄膜厚度均匀性数据。

材料
非均匀性(1σ)
AI2O3 (batch)
0.13 %
SiO2 (batch)
0.77 %
TiO2
0.28 %
HfO2
0.47 %
ZnO
0.94 %
Ta2O5
1.0 %
TiN
1.10 %
CeO2
1.52 %
Pt
3.41 %


售后服务承诺

产品货期: 90天

整机质保期: 1年

培训服务: 安装调试现场免费培训

维修响应时间: 2天内

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