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MLA 300 可实现最高的光学质量和精度。标准曝光模块的最小特征尺寸为 1.5 μm。实现更高吞吐量和更高分辨率的写入模式正在我们的路线图上。MLA 300 具有自动化功能，具有可定制的装载选项、专为生产环境设计的软件以及获得基材跟踪技术。
MLA 300 克服了口罩采购、验证和管理的要求，从而降低了生产成本和工作量。长寿命曝光激光器（24/7 全天候生产估计为 10 年）和较少的耗材可提高运营成本。模块化设计可实现快速维护、更换或维修。实时自动对焦可补偿基材翘曲或波纹，确保无瑕的图案。无掩模光刻技术允许对每个芯片进行图案校正和序列化，以全面跟踪产品特性，例如传感器校准。
| 写作表现 | |
|---|---|
| 最小行数和间距 [μm] | 2 |
| 最小特征尺寸 [μm] | 1.5 |
| CD均匀度 [3σ， nm] | 200 |
| 边缘粗糙度 [3σ， nm] | 80 |
| 拼接 [3σ， nm] | 120 |
| 第 2 层对准 [3σ， nm] | 500 |
| 背面对准 [3σ， nm] | 1000 |
| 每个模块的曝光时间（100 x 100 mm² 80 mJ/cm² 和 405 nm 激光波长） | 2.75 分钟 |
| 一个模块的最大写入速度 405 nm 激光波长 | 4615 平方毫米/分钟 |
产品货期: 60天
整机质保期: 1年
培训服务: 安装调试现场免费培训
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