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EC400高真空蒸发镀膜设备由以下主要部分组成：
真空室：提供高真空环境，确保镀膜过程的纯净性。
蒸发源：用于加热并蒸发镀膜材料，如金属、合金、半导体等。
膜厚监测仪：实时监测镀膜厚度，确保镀膜质量。
样品台：放置待镀膜样品，确保镀膜均匀性。
真空获得系统：通过抽气等方式，快速降低真空室内的气压。
真空测量系统：精确测量真空室内的气压，保证镀膜环境的稳定性。
气路系统：控制气体流动，为镀膜过程提供必要的气体环境。
PLC+触摸屏自动控制系统：实现设备的自动化控制，提高操作便捷性和镀膜效率。
该设备设计紧凑，占地面积小，且主机与控制一体化，操控方便。其主要用途包括：
开发纳米级单层、多层及复合膜层等。
制备多种类型的薄膜，如金属膜、合金膜、半导体膜、陶瓷膜及介质膜等，具体材料包括银、铝、铜、C60、BCP等。
其应用领域广泛，不仅适用于高校、科研院所的教学、科研实验及生产型企业前期探索性实验及开发新产品等，还广泛应用于钙钛矿太阳能电池、OLED、OPV太阳能电池等行业。
产品货期: 60天
整机质保期: 1年
培训服务: 安装调试现场免费培训
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