看了外延系统的用户又看了
• 晶圆直径可达 200 mm （8“）。
• 通过热壁拓扑结构实现出色的均匀性。
• 先进的动态气体流量控制，可实现最佳生长速率和掺杂均匀性。
• 具有多个加热区的出色温度曲线。
• 不含石英，适用于氯化工艺。
• 在清洁的惰性气氛中进行热晶圆装载/卸载可最大限度地减少颗粒污染并延长石墨部件的使用寿命。
• 模块化设计，两个、三个或四个反应器组成集群配置。每个反应器都针对特定的生长步骤进行了优化。
• 在受控环境中在反应器之间进行晶圆运输。
• 高达 1800 °C。
适用于中小批量生产和研发。
• 热壁 CVD 具有出色的均匀性。
• 最大 150 mm 基板直径
• 单晶圆和手动装载。
• 非常适合研发。
氮化镓外延系统
Epiluvac ER3-N1
• 上述ER3-C1系统的GaN版本。
• 可选的原位监测。
• 获得专利的温度控制，可最大限度地减少晶圆弯曲。
• 卓越的工艺效果。
产品货期: 60天
整机质保期: 1年
培训服务: 安装调试现场免费培训
VEECO外延系统Epiluvac ER3-C1的工作原理介绍
外延系统Epiluvac ER3-C1的使用方法?
VEECOEpiluvac ER3-C1多少钱一台?
外延系统Epiluvac ER3-C1可以检测什么？
外延系统Epiluvac ER3-C1使用的注意事项？
VEECOEpiluvac ER3-C1的说明书有吗？
VEECO外延系统Epiluvac ER3-C1的操作规程有吗？
VEECO外延系统Epiluvac ER3-C1报价含票含运吗？
VEECOEpiluvac ER3-C1有现货吗？
