高真空磁控溅射薄膜沉积系统
高真空磁控溅射薄膜沉积系统

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沈阳科仪

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JGP450

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中国大陆

  • 银牌
  • 第2年
  • 一般经销商
  • 营业执照已审核
核心参数

产品概述:
本沉积系统可用于制备光学薄膜、电学薄膜、磁性薄膜、硬质保护薄膜和装饰薄膜等,工艺性能稳定、模块化结构,采用行业的软件控制系统。

设备用途:
用于纳米级单层及多层功能膜、硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜等新型薄膜材料的制备。可广泛应用于大专院校、科研院所的薄膜材料的科研项目。

真空室结构:
圆筒形上升盖

真空室尺寸:
φ450×350mm

极限真空度:
≤6.0E-5Pa

沉积源:
永磁靶3套,φ2英寸

样品尺寸,温度:
φ2英寸,6片; φ4英寸,1片; 最高800℃

占地面积(长x宽x高):
约2米×1.5米×2米

电控描述:
全自动

工艺:
片内膜厚均匀性:≤±3%







售后服务承诺

产品货期: 60天

整机质保期: 1年

培训服务: 安装调试现场免费培训

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