高真空磁控溅射薄膜沉积系统
高真空磁控溅射薄膜沉积系统

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沈阳科仪

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TRP450

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中国大陆

  • 银牌
  • 第2年
  • 一般经销商
  • 营业执照已审核
核心参数

产品概述:
本沉积系统可用于制备光学薄膜、电学薄膜、磁性薄膜、硬质保护薄膜和装饰薄膜等,工艺性能稳定、模块化结构,采用行业的软件控制系统。

设备用途:
可广泛应用于大专院校、科研院所的薄膜材料的科研项目。


用户评价:
TRP-450高真空镀膜机其设备质量过关,功能齐全,性能稳定,自动化程度高,抽气极速平稳,电源稳定可靠,气路流畅密闭,镀膜质量平整光滑,均匀致密,结合力强,且系统操控智能,便捷,可满足科研实验与生产制造的需求,是一款优秀的磁控溅射镀膜系统。——北京石墨烯技术研究院有限公司 李老师

真空室结构:
圆筒形前开门

真空室尺寸:
φ450x400mm

极限真空度:
≤6.6E-6Pa

沉积源:
永磁靶3套,φ2英寸,可以向上溅射或向下溅射。

样品尺寸,温度:
φ4英寸,1片,最高800℃

占地面积(长x宽x高):
约1米×1.8米×2米

电控描述:
全自动

工艺:
片内膜厚均匀性:≤±3%






售后服务承诺

产品货期: 60天

整机质保期: 1年

培训服务: 安装调试现场免费培训

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