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主要特点是
良好的温度均匀性
精确控制的斜坡上升速率和快速斜坡下降速率
工艺周转时间短
舒适的气体控制
台式系统,占地面积小
带前置式抽屉的多功能桌面单元,适用于以下应用:
适用于各种半导体工艺的优秀工具
实施新的半导体工艺
原型研究
质量管理
退火
快速热处理
SiAu、SiAl、SiMo合金化
低介电常数
植入后退火
铜浆烧制
电阻膏烧制
其他工艺按需提供
技术参数:
适用于最大 100 mm (4“) 或 100 mm x 100 mm 基板尺寸的单晶圆
由石英玻璃制成的工艺室
带集成气体入口和出口
包括一条带氮气质量流量控制器的过程气体管路(5 nlm = 标准升/分钟)
由 18 个红外灯 (20 kW) 加热
顶部和底部加热(可选)
外部泵系统具有真空功能(最高 10E-3 hPa,最高 10E-6 hPa:参见 RTP-100-HV)
SPS 过程控制器,带 50 个程序,每个程序最多 50 个步骤(以太网接口),SIMATIC
7 英寸触摸屏,便于编程和过程控制
最高气温 1200 °C
通过热电偶进行温度控制
需要水冷
电气连接类型:32 A CEE 插头(3x 230 V,3 相,N,PE,20 kW)
烤箱尺寸:504 x 504 (700) x 570 毫米(宽 x 深 x 高)
重量: 55 kg
烤箱将由西门子 SPS 控制器进行编程。这允许存储 50 个程序,并保存所有温度曲线和段。
可根据要求提供水冷却器、附加流量计、附加气体管线、附加热电偶等选件和附件。该工具
适用于各种应用程序和客户。体积小,可以舒适地装卸腔室。烤箱可以很容易地放在
标准实验室的桌子上。
选件和配件:
RTP-100型 | 带有 1 MFC 氮气 (5 nlm) 的基本单位 |
RTP-MFC型 | 质量流量控制器(总共最多 4 个) |
VAC 一 | 真空度高达 3 hPa(含)真空传感器和阀门(不包括泵) |
VAC 二 | 真空度高达 10E-3 hPa(含)真空传感器和阀门(不包括泵) |
国会议员 | 隔膜泵或隔膜泵 |
RVP(RVP) | 旋片泵 |
RTP-Ox (英语) | 氧气测量 |
RTP-MM型 | 湿度测量 |
RTP-H2+H2S | 氢气模块使用 100% 氢气,带安全装置,包括 MFC |
RTP-SW型 | 用于冷水机组和/或真空泵的开关盒 |
RTP-TC型 | 添加热电偶以在设备上测量(最多 1 个) |
RTP-录像机 | VCR 连接器和线路(根据要求) |
WC III | 闭环水冷站 |
RTP-GP型 | 石墨板或基体(SiC涂层:根据要求) |
RTP-PC-100型 | 用于一个 100 mm 过程控制器单元(双包装烤箱)的附加烘箱室 |
RTP-QR-50型 | 用于 50 mm 晶圆的适配器 |
RTP-QR-75型 | 用于 75 mm 晶圆的适配器 |
产品货期: 60天
整机质保期: 1年
培训服务: 安装调试现场免费培训
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