技术参数：

一、腔室与基片尺寸

• 通常具有较大尺寸的腔室，可适应不同规模的生产需求。基片尺寸可以根据具体型号和客户要求进行定制，一般能够处理较大尺寸的基片，以满足多种应用场景。

二、沉积源

1. 溅射源：

• 多种溅射模式：提供射频（RF）、直流（DC）、脉冲直流（Pulsed DC）、高功率脉冲磁控溅射（HIPIMS）、线性溅射、对向靶/低损伤溅射等多种溅射方式。

• 阴极类型：有圆形、线性和圆柱形阴极可供选择，以适应不同的工艺要求和基片形状。

2. 电子束源：

• 离子辅助电子束：可进行离子辅助电子束蒸发，提高薄膜质量和性能。

• 源配置：具有多种源功率和电源选项，可编程扫描控制器通过先进的软件平台控制，并带有配方存储功能。扭矩感应坩埚分度器可检测口袋堵塞情况，腔室内有足够空间容纳多个电子束源。

3. 热蒸发源：

• 加热方式：可使用各种舟、灯丝和坩埚加热器进行热蒸发。

• 自动调谐：具备自动调谐功能，确保精确的蒸发速率控制。

• 有机蒸发：支持有机材料的蒸发，满足特定应用需求。

• 铝蒸发：能够进行铝（Al）的高效蒸发，适用于特定的金属镀膜需求。

三、等离子体和离子束处理

• 离子辅助沉积：使用离子源进行离子辅助沉积，增强薄膜的性能和附着力。

• 蚀刻与清洁：可进行蚀刻和清洁处理，去除基片表面的杂质和污染物，为高质量的薄膜沉积做准备。

• 离子束溅射沉积：利用离子束进行溅射沉积，可实现特定的材料沉积和薄膜结构控制。

四、夹具与自动化

1. 夹具功能：

• 掩蔽快门：提供掩蔽快门功能，可精确控制薄膜沉积的区域。

• 可变角度载物台：载物台具有可变角度功能，方便调整基片的角度，以实现不同的沉积效果。

• 行星/圆顶夹具：行星和圆顶夹具可实现复杂的基片运动，提高薄膜的均匀性和质量。

• 加热与冷却：具备阶段加热和冷却功能，可精确控制基片的温度，满足不同材料的沉积要求。

• 基板偏压：可对基片施加偏压，调节薄膜的生长过程和性能。

• 卷对卷涂层：支持卷对卷涂层，适用于连续生产和大规模制造。

2. 自动化选项：

• 光学监测与控制：配备先进的光学监测系统，可实时监测薄膜的生长过程，并进行精确的控制。

• Aeres控制软件：采用先进的 Aeres 控制软件，实现对整个沉积过程的自动化控制和管理。通过 PC/PLC 控制的配方可用于单个、批量或自动化处理，具有先进的数据记录和过程跟踪功能，确保一致和可重复的工艺。高分辨率控制提供出色的低速率稳定性和一致的掺杂比，中央控制站可管理每个模块并安排每个腔室的工艺，轻松创建和修改复杂的配方，自动 PID 控制回路调谐显著减少工艺开发时间。

• 装载锁：配备装载锁，提高系统的生产效率和真空度保持能力。

• 基片转移：实现基片的自动转移，减少人工操作，提高生产效率和一致性。

• 掩模处理：能够自动处理掩模，提高生产效率和精度。

应用领域：

一、微电子领域

• 制造集成电路、半导体器件等，通过精确控制薄膜的厚度、成分和结构，实现高性能的电子元件。例如，在集成电路制造中，可用于沉积金属导电层、绝缘层和半导体材料层，以构建复杂的电路结构。

二、光学领域

• 制备各种光学薄膜，如反射膜、增透膜、滤光膜等，以实现特定的光学性能。例如，在光学镜片、激光器、太阳能电池等设备中，通过精确控制薄膜的光学参数，提高设备的性能和效率。

三、太阳能领域

• 用于太阳能电池的制造，如沉积透明导电氧化物（TCO）薄膜、抗反射膜等，提高太阳能电池的光电转换效率。例如，通过磁控溅射或热蒸发等技术，在硅基太阳能电池表面沉积高质量的 TCO 薄膜，降低表面电阻，提高光的透过率。

四、材料科学研究

• 开发和研究新型材料的薄膜特性，为材料科学的发展提供实验平台。例如，研究新型二维材料的生长机制、性能调控和应用潜力，通过精确控制沉积条件，制备高质量的二维材料薄膜。

五、医疗器械领域

• 对医疗器械进行表面处理，以改善其性能和生物相容性。例如，在植入式医疗器械表面沉积生物相容性薄膜，减少炎症反应和排斥反应，提高医疗器械的使用寿命和安全性。

六、其他领域

• 还可应用于薄膜电池、平板显示器、量子点器件等领域，为这些领域的发展提供先进的薄膜沉积技术。例如，在薄膜电池制造中，可沉积电极材料、电解质薄膜等，提高电池的性能和稳定性。

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