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Orion Proxima 高密度等离子体化学气相沉积系统
1、优越的填孔能力以及高沉积速率
Excellent gap-fill capacity and high deposition rate
2、独特的温度场和 ICP 电磁场设计保证了低温高致密的膜质表现
Unique thermal field and ICP Electromagnetic field design enhancing performance of the high-density film quality at low temperature
3、优化机台结构,缩小占地面积
Optimized system architecture with minimized foot print
4、友好的人机交互和安全性设计保障系统稳定、安全、高效
User-friendly interface and security designed to ensure the system stability, safety and efficiency
技术参数
1、晶圆尺寸 12 英寸
2、适用材料 氧化硅
3、适用工艺 浅沟槽隔离、金属间介质层、钝化层
4、适用领域 新兴应用、集成电路
产品货期: 60天
整机质保期: 1年
培训服务: 安装调试现场免费培训
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化学气相沉积(CVD)Orion Proxima 的使用方法?
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